氧化钒薄膜微结构与噪声性能研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-21页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 红外探测器 | 第10-16页 |
| 1.2.1 红外探测器的发展 | 第10-13页 |
| 1.2.2 国内外非制冷型探测器研究状况 | 第13-15页 |
| 1.2.3 探测器的噪声 | 第15-16页 |
| 1.3 热敏薄膜 | 第16-18页 |
| 1.4 薄膜材料噪声研究现状 | 第18页 |
| 1.5 论文的主要工作 | 第18-21页 |
| 1.5.1 选题意义 | 第18-19页 |
| 1.5.2 研究内容 | 第19页 |
| 1.5.3 论文结构 | 第19-21页 |
| 第二章 薄膜低频噪声测试系统的设计与实现 | 第21-33页 |
| 2.1 噪声的基础理论 | 第21-22页 |
| 2.2 低频噪声测试系统设计与实现 | 第22-30页 |
| 2.3 噪声表征方法的依据和验证 | 第30-32页 |
| 2.4 本章小结 | 第32-33页 |
| 第三章 基片温度对氧化钒薄膜结构与性能的影响 | 第33-44页 |
| 3.1 样品制备方法 | 第33-35页 |
| 3.1.1 溶胶-凝胶法 | 第33页 |
| 3.1.2 脉冲激光沉积技术 | 第33-34页 |
| 3.1.3 真空溅射镀膜技术 | 第34-35页 |
| 3.2 基片温度对氧化钒薄膜结构的影响 | 第35-39页 |
| 3.2.1 AFM形貌分析 | 第35-37页 |
| 3.2.2 Raman光谱分析 | 第37-39页 |
| 3.3 基片温度对氧化钒薄膜的电学性能影响 | 第39-43页 |
| 3.3.1 电阻温度特性 | 第39-40页 |
| 3.3.2 噪声性能 | 第40-43页 |
| 3.4 本章小结 | 第43-44页 |
| 第四章 掺杂钇对氧化钒薄膜结构与噪声性能的影响 | 第44-50页 |
| 4.1 掺Y氧化钒薄膜的制备 | 第44页 |
| 4.2 掺Y对氧化钒薄膜结构的影响 | 第44-48页 |
| 4.2.1 AFM形貌分析 | 第44-46页 |
| 4.2.2 Raman光谱分析 | 第46-47页 |
| 4.2.3 EPR分析 | 第47-48页 |
| 4.3 掺Y对氧化钒薄膜噪声性能的影响 | 第48-49页 |
| 4.4 本章小结 | 第49-50页 |
| 第五章 掺杂银对氧化钒薄膜结构与性能的影响 | 第50-61页 |
| 5.1 引言 | 第50页 |
| 5.2 掺Ag对无相变氧化钒结构与电学性能的影响 | 第50-56页 |
| 5.2.1 AFM形貌分析 | 第50-52页 |
| 5.2.2 SEM形貌分析 | 第52-53页 |
| 5.2.3 掺Ag对氧化钒薄膜电学特性的影响 | 第53-56页 |
| 5.2.3.1 电阻温度特性 | 第53-54页 |
| 5.2.3.2 噪声性能 | 第54-56页 |
| 5.3 掺Ag对相变氧化钒薄膜结构和性能的影响 | 第56-60页 |
| 5.3.1 掺Ag对二氧化钒相变特性的影响 | 第56-57页 |
| 5.3.2 AFM形貌分析 | 第57-58页 |
| 5.3.3 SEM形貌分析 | 第58页 |
| 5.3.4 XRD分析 | 第58-59页 |
| 5.3.5 Raman光谱分析 | 第59-60页 |
| 5.4 本章小结 | 第60-61页 |
| 第六章 结论和展望 | 第61-63页 |
| 6.1 结论 | 第61-62页 |
| 6.2 展望 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-69页 |
| 攻读硕士学位期间研究成果 | 第69-70页 |
