摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6页 |
第一章 绪论 | 第9-21页 |
1.1 引言 | 第9页 |
1.2 光催化基本原理 | 第9-12页 |
1.3 影响光催化剂活性的主要因素 | 第12-15页 |
1.3.1 光吸收范围 | 第12-13页 |
1.3.2 载流子分离与迁移 | 第13页 |
1.3.3 表面与界面反应 | 第13-15页 |
1.4 WO_3光催化剂及其能效提高 | 第15-18页 |
1.4.1 形貌调控 | 第16-17页 |
1.4.2 离子掺杂 | 第17页 |
1.4.3 贵金属负载 | 第17-18页 |
1.4.4 异质结 | 第18页 |
1.4.5 暴露面调控 | 第18页 |
1.5 WO_3的光催化应用 | 第18-19页 |
1.5.1 污染物降解 | 第18-19页 |
1.5.2 水分解 | 第19页 |
1.6 本文的研究意义与内容 | 第19-21页 |
第二章 实验方法与原理 | 第21-25页 |
2.1 实验原料与设备 | 第21页 |
2.1.1 实验原料 | 第21页 |
2.1.2 实验设备 | 第21页 |
2.2 材料合成方法 | 第21-22页 |
2.3 主要测试方法及原理 | 第22-25页 |
2.3.1 X射线衍射(XRD) | 第22-23页 |
2.3.2 场发射扫描电镜(SEM)以及透射电子显微镜(TEM) | 第23页 |
2.3.3 紫外-可见光谱(DRS) | 第23-24页 |
2.3.4 光致发光谱(PL) | 第24页 |
2.3.5 催化剂性能表征 | 第24-25页 |
第三章 负载WO_3纳米颗粒的g-C_3N_4异质结的简单合成以及光催化性能研究 | 第25-41页 |
3.1 引言 | 第25页 |
3.2 研究背景 | 第25-27页 |
3.3 实验方法 | 第27-29页 |
3.3.1 材料合成 | 第27-28页 |
3.3.2 材料表征 | 第28-29页 |
3.3.3 光催化测量 | 第29页 |
3.3.4 电化学测量 | 第29页 |
3.4 结果与讨论 | 第29-40页 |
3.4.1 光催化剂的显微结构 | 第29-35页 |
3.4.2 光催化性能以及稳定性 | 第35-38页 |
3.4.3 电化学表征 | 第38页 |
3.4.4 光催化机理探讨 | 第38-40页 |
3.5 总结 | 第40-41页 |
第四章 具有特殊暴露面的氧化钨的氧空位调控以及可见光驱动光催化产氧性能研究 | 第41-51页 |
4.1 引言 | 第41页 |
4.2 研究背景 | 第41-42页 |
4.3 实验方法 | 第42-43页 |
4.3.1 材料合成 | 第42页 |
4.3.2 材料表征 | 第42-43页 |
4.3.3 光催化测量 | 第43页 |
4.4 结果与讨论 | 第43-49页 |
4.5 总结 | 第49-51页 |
第五章 总结 | 第51-53页 |
参考文献 | 第53-59页 |
致谢 | 第59-61页 |
个人简历 | 第61-63页 |
硕士期间发表的论文及专利 | 第63页 |