摘要 | 第3-4页 |
Abstract | 第4-5页 |
第一章 绪论 | 第9-17页 |
1.1 前言 | 第9-10页 |
1.2 光催化机理 | 第10-11页 |
1.3 钨基半导体材料的研究进展 | 第11-16页 |
1.3.1 引言 | 第11页 |
1.3.2 钨基光催化剂的制备 | 第11-13页 |
1.3.3 钨基光催化剂的改性 | 第13-16页 |
1.4 论文的选题背景、意义及研究内容 | 第16-17页 |
第二章 实验部分 | 第17-22页 |
2.1 实验药品 | 第17页 |
2.2 实验仪器 | 第17-18页 |
2.3 光催化剂表征 | 第18-20页 |
2.3.1 X-射线粉末衍射(XRD) | 第18页 |
2.3.2 扫描电子显微镜(SEM) | 第18页 |
2.3.3 BET物理吸附仪 | 第18-19页 |
2.3.4 透射电子显微镜(TEM) | 第19页 |
2.3.5 X射线光电子能谱(XPS) | 第19页 |
2.3.6 紫外-可见漫反射吸收光谱(UV-visDRS) | 第19-20页 |
2.3.7 傅里叶变换红外光谱(FT-IR) | 第20页 |
2.3.8 光电流 | 第20页 |
2.3.9 光致发光光谱 | 第20页 |
2.4 光催化活性测试 | 第20-22页 |
第三章 棒状(Ag、Pt)/PbWO4复合微米晶的合成、表征及光催化性能 | 第22-40页 |
3.1 引言 | 第22-23页 |
3.2 实验部分 | 第23页 |
3.2.1 催化剂的制备 | 第23页 |
3.3 结果与讨论 | 第23-39页 |
3.3.1 XRD分析 | 第23-25页 |
3.3.2 BET分析 | 第25页 |
3.3.3 SEM和TEM分析 | 第25-27页 |
3.3.4 XPS分析 | 第27-30页 |
3.3.5 FT-IR分析 | 第30-31页 |
3.3.6 UV-VisDRS分析 | 第31-33页 |
3.3.7 PL分析 | 第33-34页 |
3.3.8 光催化活性测试 | 第34-39页 |
3.4 小结 | 第39-40页 |
第四章 三维树枝状C/PbWO4催化剂的制备及其对不同染料的光催化降解性能 | 第40-52页 |
4.1 引言 | 第40页 |
4.2 实验部分 | 第40-41页 |
4.2.1 催化剂的制备 | 第40-41页 |
4.3 结果与讨论 | 第41-51页 |
4.3.1 XRD分析 | 第41-42页 |
4.3.2 SEM分析 | 第42-43页 |
4.3.3 TEM分析 | 第43-44页 |
4.3.4 FT-IR分析 | 第44-45页 |
4.3.5 UV-VisDRS分析 | 第45-46页 |
4.3.6 PL分析 | 第46-47页 |
4.3.7 光电流分析 | 第47-48页 |
4.3.8 光催化性能与机理分析 | 第48-51页 |
4.4 小结 | 第51-52页 |
第五章 Bi2WO6/PbWO4复合微米晶的合成、表征及光催化性能 | 第52-63页 |
5.1 引言 | 第52页 |
5.2 实验部分 | 第52-53页 |
5.2.1 催化剂的制备 | 第52-53页 |
5.3 结果与讨论 | 第53-62页 |
5.3.1 XRD分析 | 第53-54页 |
5.3.2 BET分析 | 第54-55页 |
5.3.3 SEM分析 | 第55页 |
5.3.4 FT-IR分析 | 第55-56页 |
5.3.5 UV-VisDRS分析 | 第56-57页 |
5.3.6 PL分析 | 第57页 |
5.3.7 光电流分析 | 第57-58页 |
5.3.8 光催化活性测试 | 第58-60页 |
5.3.9 光催化机理 | 第60-62页 |
5.4 小结 | 第62-63页 |
第六章 结论与展望 | 第63-65页 |
6.1 结论 | 第63-64页 |
6.2 展望 | 第64-65页 |
参考文献 | 第65-72页 |
致谢 | 第72-73页 |
攻读学位期间的研究成果 | 第73-74页 |