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基于CMOS工艺的盖革模式SPAD像元电路研究

摘要第3-4页
ABSTRACT第4页
1 绪论第8-14页
    1.1 引言第8-9页
    1.2 单光子探测和探测器第9-10页
    1.3 单光子探测器的国内外研究现状第10-12页
    1.4 课题研究的主要内容第12-14页
2 盖革模式下单光子雪崩二极管的工作原理和工作模式第14-26页
    2.1 盖革模式的原理第14-15页
    2.2 单光子雪崩二极管探测器的原理第15-16页
    2.3 SPAD 的特性参数第16-20页
        2.3.1 暗计数率第16页
        2.3.2 后脉冲率第16-17页
        2.3.3 光子探测效率第17-18页
        2.3.4 响应度第18页
        2.3.5 时间分辨率第18-19页
        2.3.6 带宽第19-20页
    2.4 SPAD 的淬灭与复位方式第20-24页
        2.4.1 无源淬灭第20-22页
        2.4.2 有源淬灭第22-23页
        2.4.3 门控模式淬灭第23-24页
    2.5 小结第24-26页
3 CMOS 工艺的 SPAD 结构设计和仿真第26-48页
    3.1 常用的几种 CMOS 工艺的 SPAD 器件结构第26-30页
    3.2 CMOS 工艺的 SPAD 结构设计和实现第30-35页
        3.2.1 原理结构图的设计第30-31页
        3.2.2 仿真软件 Silvaco 的介绍第31页
        3.2.3 用 Atlas 实现原理结构图的设计第31-35页
    3.3 SPAD 器件的仿真与优化第35-47页
        3.3.1 雪崩击穿原理和仿真第35-39页
        3.3.2 电场强度和碰撞产生率仿真第39-41页
        3.3.3 盖革模式下的暗电流和光电流仿真第41-43页
        3.3.4 SPAD 的盖革模式和雪崩产生率仿真第43-45页
        3.3.5 相同电压下的波长与光电流关系仿真第45-47页
    3.4 小结第47-48页
4 单光子雪崩二极管的淬灭复位电路第48-64页
    4.1 淬灭电路的介绍第48-51页
        4.1.1 CMOS 工艺的无源淬灭像元第48-49页
        4.1.2 CMOS 工艺的有源淬灭像元第49-51页
    4.2 单光子雪崩二极管的 Spice 模型和仿真第51-59页
        4.2.1 SPAD 的 Spice 模型第51-55页
        4.2.2 Spice 模型的仿真第55-59页
    4.3 淬灭电路的设计和仿真第59-61页
    4.4 版图的绘制第61-62页
    4.5 小结第62-64页
5 论文总结第64-66页
致谢第66-68页
参考文献第68-74页
附录第74页
    A. 作者在攻读硕士学位期间发表的论文目录第74页

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