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多孔硅电极的光电功能及其应用研究

摘要第1-11页
Abstract第11-14页
第1章 绪论第14-44页
   ·多孔硅的制备及发光性质第15-25页
     ·多孔硅的制备方法第15-17页
     ·多孔硅的形成机理第17-18页
     ·多孔硅的形成的理论模型第18-19页
     ·多孔硅的微观结构及制备条件对其的影响第19-21页
     ·多孔硅的光致发光(PL)和电致发光(EL)第21-23页
     ·多孔硅的发光机理第23-25页
   ·多孔硅的稳定化处理及表面修饰现状第25-29页
     ·氧化处理第25-26页
     ·超临界干燥处理第26页
     ·非金属的表面钝化处理第26-28页
     ·金属修饰多孔硅表面第28页
     ·有机高分子修饰多孔硅表面第28-29页
     ·多孔硅表面的生物功能性修饰第29页
   ·多孔硅在器件上的应用第29-33页
     ·发光二极管(LED)第29页
     ·光探测器第29-30页
     ·光波导器件第30页
     ·光电集成器件第30-31页
     ·多孔硅传感器第31-33页
     ·太阳能电池第33页
   ·题选题依据第33-34页
 参考文献第34-44页
第2章 多孔硅的制备及荧光增强效应第44-50页
   ·引言第44页
   ·试剂及仪器第44页
   ·实验过程第44-46页
     ·硅片的清洗第44页
     ·硅片的光电化学刻蚀第44-45页
     ·多孔硅的稳定性处理及清洗第45-46页
     ·过氧化氢催化对多孔硅腐蚀的影响第46页
   ·结果与讨论第46-48页
     ·多孔硅样品的金像显微镜照片第46页
     ·多孔硅样品在紫外灯下的照片和荧光强度比较第46-48页
     ·样品的红外光谱分析(FTIR)第48页
   ·本章小结第48-49页
 参考文献第49-50页
第3章 多孔硅刻蚀过程中的介质增强荧光效应第50-59页
   ·引言第50页
   ·试剂及仪器第50页
   ·实验过程第50-51页
     ·钛溶胶的制备第50-51页
     ·多孔硅的制备第51页
     ·样品的表征第51页
   ·结果与讨论第51-56页
     ·样品的在紫外灯下的照片分析第51-54页
     ·样品的FT-IR分析第54-55页
     ·样品的X光电子能谱分析第55-56页
     ·样品的光电化学分析第56页
   ·本章小结第56-57页
 参考文献第57-59页
第4章 TiO_2/PS复合电极的光电性能研究第59-71页
   ·引言第59页
   ·试剂及仪器第59页
   ·多孔硅的制备第59页
   ·工作电极的制备第59-61页
   ·结果与讨论第61-69页
     ·多孔硅PS电极和TiO_2/PS电极的扫描电镜显微照片第61页
     ·多孔硅PS电极和TiO_2/PS电极的荧光分析第61-62页
     ·多孔硅PS电极和TiO_2/PS电极的红外光谱分析(FTIR)第62-63页
     ·样品TiO_2/PS的XPS分析第63-65页
     ·复合电极在光照条件下对应的(Ⅰ)-(Ⅴ)关系第65-67页
     ·不同退火温度的TiO_2/PS复合电极的在黑暗和光照条件下对应的电流(Ⅰ)-电压(Ⅴ)关系第67-68页
     ·同温度不同退火时间的TiO_2/PS电极,在黑暗和光照条件下的Ⅰ~Ⅴ关系第68-69页
   ·本章小结第69页
 参考文献第69-71页
第5章 TiO_2/Ag/PS复合电极的光电性能研究第71-77页
   ·试剂及仪器第71页
   ·多孔硅的制备第71页
   ·工作电极的制备第71-72页
   ·结果与讨论第72-75页
     ·TiO_2/Ag/PS电极的扫描电镜显微照片第72-73页
     ·TiO_2/Ag/PS电极在光照条件下对应的电流(Ⅰ)-电压(Ⅴ)关系第73-74页
     ·在光照条件下复合电极对应的时间-电流密度关系第74-75页
     ·TiO_2/Ag/PS电极B在黑暗和光照条件下,不同温度的Ⅰ~Ⅴ关系第75页
   ·本章小结第75-76页
 参考文献第76-77页
第6章 结论第77-79页
硕士期间发表的论文第79-80页
致谢第80页

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