离子液体系中卤化亚铜晶体的生长与性能研究
摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5页 |
引言 | 第10-12页 |
1 绪论 | 第12-25页 |
1.1 离子液体简介 | 第12-14页 |
1.1.1 离子液体的定义 | 第12页 |
1.1.2 离子液体发展历史 | 第12页 |
1.1.3 离子液体的分类 | 第12-13页 |
1.1.4 离子液体的物化性质 | 第13页 |
1.1.5 离子液体的应用 | 第13-14页 |
1.1.6 离子液体的展望 | 第14页 |
1.2 超快闪烁晶体碘化亚铜的研究概况 | 第14-16页 |
1.2.1 闪烁晶体的简介 | 第14-15页 |
1.2.1.1 闪烁晶体的定义 | 第14页 |
1.2.1.2 闪烁晶体的机理及性能 | 第14页 |
1.2.1.3 闪烁晶体的研究状况 | 第14-15页 |
1.2.1.4 闪烁晶体的应用 | 第15页 |
1.2.2 碘化亚铜晶体的研究进展 | 第15-16页 |
1.2.2.1 碘化亚铜晶体的结构与性能 | 第15页 |
1.2.2.2 碘化亚铜晶体生长与研究现状 | 第15-16页 |
1.3 溴化亚铜晶体的研究概况 | 第16页 |
1.3.1 溴化亚铜晶体的结构与性能 | 第16页 |
1.3.2 溴化亚铜晶体的生长方法与现状 | 第16页 |
1.4 氯化亚铜电光晶体的研究概况 | 第16-19页 |
1.4.1 电光晶体的简介 | 第16-18页 |
1.4.1.1 电光效应 | 第16-17页 |
1.4.1.2 电光晶体及电光效应的机理 | 第17页 |
1.4.1.3 电光晶体的研究现状 | 第17-18页 |
1.4.1.4 电光晶体的应用 | 第18页 |
1.4.2 氯化亚铜的晶体研究进展 | 第18-19页 |
1.4.2.1 氯化亚铜晶体的结构与性能 | 第18页 |
1.4.2.2 氯化亚铜晶体的生长与研究现状 | 第18-19页 |
1.5 溶液法生长晶体 | 第19-23页 |
1.5.1 概述 | 第19页 |
1.5.2 溶液的过饱和度 | 第19-20页 |
1.5.3 降温法 | 第20-21页 |
1.5.4 温差法 | 第21-23页 |
1.6 本课题的选题依据和主要研究内容 | 第23-25页 |
1.6.1 选题依据 | 第23页 |
1.6.2 主要工作 | 第23-25页 |
2 卤化亚铜咪唑离子液体体系的研究 | 第25-36页 |
2.1 溶液溶解度的测定 | 第25-27页 |
2.1.1 测定原理 | 第25页 |
2.1.2 测定装置 | 第25-26页 |
2.1.3 溶解度的测定 | 第26-27页 |
2.2 溶液黏度的测定 | 第27-30页 |
2.2.1 测定原理 | 第28页 |
2.2.2 测定装置 | 第28-29页 |
2.2.3 黏度测定 | 第29-30页 |
2.3 溶液电导率的测定 | 第30-34页 |
2.3.1 测定原理 | 第30-31页 |
2.3.2 测定装置 | 第31-33页 |
2.3.3 电导池常数的标定 | 第33页 |
2.3.4 电导率测定 | 第33-34页 |
2.4 本章小结 | 第34-36页 |
3 碘化亚铜晶体的生长及性能研究 | 第36-50页 |
3.1 引言 | 第36页 |
3.2 生长试剂及处理 | 第36-37页 |
3.3 实验测试仪器及原理 | 第37-38页 |
3.3.1 紫外-可见吸收光谱 | 第37页 |
3.3.2 差热热重分析 | 第37-38页 |
3.3.3 X-射线粉末衍射 | 第38页 |
3.4 晶体生长 | 第38-47页 |
3.4.1 降温法晶体生长 | 第38-44页 |
3.4.1.1 晶体生长装置 | 第38-41页 |
3.4.1.2 生长过程及条件控制 | 第41-42页 |
3.4.1.3 结果与讨论 | 第42-44页 |
3.4.2 温差法生长装置及晶体生长 | 第44-47页 |
3.4.2.1 生长装置 | 第44-45页 |
3.4.2.2 坩埚的封装及生长条件控制 | 第45-46页 |
3.4.2.3 结果与讨论 | 第46-47页 |
3.5 晶体的分析表征 | 第47-49页 |
3.5.1 X-射线粉末衍射分析 | 第47页 |
3.5.2 差热/热重分析 | 第47-48页 |
3.5.3 紫外可见吸收光谱分析 | 第48-49页 |
3.6 本章小结 | 第49-50页 |
4 溴化亚铜晶体的生长及性能研究 | 第50-59页 |
4.1 引言 | 第50页 |
4.2 生长试剂及处理 | 第50-51页 |
4.3 晶体的生长 | 第51-55页 |
4.3.1 生长装置 | 第51-52页 |
4.3.2 晶体生长及条件控制 | 第52页 |
4.3.3 结果与讨论 | 第52-55页 |
4.3.3.1 生长溶液 | 第52-55页 |
4.3.3.2 晶体 | 第55页 |
4.4 油封防氧化研究 | 第55-56页 |
4.5 晶体的分析表征 | 第56-58页 |
4.5.1 X-射线粉末衍射分析 | 第56-57页 |
4.5.2 荧光光谱分析 | 第57-58页 |
4.5.3 差热/热重分析 | 第58页 |
4.6 本章小结 | 第58-59页 |
5 氯化亚铜晶体的生长及性能研究 | 第59-64页 |
5.1 引言 | 第59页 |
5.2 生长试剂及处理 | 第59-60页 |
5.3 晶体生长 | 第60-62页 |
5.3.1 晶体的生长装置 | 第60页 |
5.3.2 坩埚的封装及生长条件控制 | 第60-61页 |
5.3.3 结果与讨论 | 第61-62页 |
5.4 晶体的分析表征 | 第62-63页 |
5.4.1 X-射线粉末衍射分析 | 第62页 |
5.4.2 的差热/热重分析 | 第62-63页 |
5.5 本章小结 | 第63-64页 |
6 结论 | 第64-65页 |
参考文献 | 第65-72页 |
在学研究成果 | 第72-73页 |
致谢 | 第73页 |