表面等离子体纳米直写光刻的理论与实验研究
| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第10-16页 |
| 1.1 本文研究背景 | 第10-11页 |
| 1.2 表面等离子体光刻的研究现状 | 第11-15页 |
| 1.3 本文研究意义及内容安排 | 第15-16页 |
| 2 BIM光刻结构的理论研究 | 第16-27页 |
| 2.1 表面等离子体概念及特性 | 第16-18页 |
| 2.2 表面等离子体的激发方式 | 第18-20页 |
| 2.3 表面等离子体数值研究方法 | 第20页 |
| 2.4 Bowtie孔径结构的性质 | 第20-22页 |
| 2.4.1 Bowtie孔径结构 | 第20-21页 |
| 2.4.2 Bowtie孔径结构的共振性质 | 第21-22页 |
| 2.5 BIM光刻结构设计 | 第22-23页 |
| 2.6 BIM光刻结构的仿真结果 | 第23-26页 |
| 2.6.1 BIM光刻结构的局域增强特性 | 第23-25页 |
| 2.6.2 BIM光刻结构的极化调控特性 | 第25-26页 |
| 2.7 本章小结 | 第26-27页 |
| 3 SPs纳米直写光刻的实验研究 | 第27-35页 |
| 3.1 探针制备 | 第27-29页 |
| 3.1.1 探针结构 | 第27-28页 |
| 3.1.2 工艺流程 | 第28-29页 |
| 3.2 Pr-Ag结构制备 | 第29-30页 |
| 3.3 SPs纳米直写光刻实验装置与光刻过程 | 第30-32页 |
| 3.3.1 实验装置 | 第30-31页 |
| 3.3.2 光刻过程 | 第31-32页 |
| 3.4 实验结果与讨论 | 第32-34页 |
| 3.4.1 极化方式对光刻结果的影响 | 第32-33页 |
| 3.4.2 不同曝光量的光刻结果 | 第33-34页 |
| 3.5 本章小结 | 第34-35页 |
| 4 总结与展望 | 第35-37页 |
| 4.1 结论 | 第35页 |
| 4.2 展望 | 第35-37页 |
| 参考文献 | 第37-42页 |
| 致谢 | 第42-43页 |
| 在校期间的科研成果 | 第43页 |
