| 摘要 | 第10-12页 |
| ABSTRACT | 第12-14页 |
| 第1章 绪论 | 第15-26页 |
| 1.1 石墨烯及其衍生物的基本特征 | 第15-16页 |
| 1.2 氧化石墨烯和还原氧化石墨烯的环境行为研究现状 | 第16-23页 |
| 1.2.1 分散和团聚 | 第16-18页 |
| 1.2.2 化学转化和生物降解过程 | 第18-19页 |
| 1.2.3 界面沉积 | 第19-21页 |
| 1.2.4 孔隙迁移和颗粒物滞留 | 第21-23页 |
| 1.3 研究思路 | 第23-25页 |
| 1.4 本研究的环境意义 | 第25-26页 |
| 第2章 氧化石墨烯和还原氧化石墨烯的合成及表征 | 第26-32页 |
| 2.1 材料和制备方法 | 第26-27页 |
| 2.1.1 GO分散液的制备 | 第26页 |
| 2.1.2 RGO粉末和分散液的制备 | 第26-27页 |
| 2.2 理化性质表征 | 第27-31页 |
| 2.2.1 紫外-可见光吸收光谱 | 第27-28页 |
| 2.2.2 傅里叶变换红外光谱表征 | 第28-29页 |
| 2.2.3 拉曼光谱表征 | 第29-30页 |
| 2.2.4 X射线光电子能谱表征 | 第30-31页 |
| 2.3 小结 | 第31-32页 |
| 第3章 氧化石墨烯和还原氧化石墨烯的团聚动力学研究 | 第32-39页 |
| 3.1 GO和RGO的电泳迁移率 | 第32-34页 |
| 3.1.1 研究方法 | 第32页 |
| 3.1.2 电泳迁移率随电解质浓度的变化 | 第32-34页 |
| 3.2 GO和RGO的水动力学粒径增长和团聚效率 | 第34-38页 |
| 3.2.1 团聚动力学理论和实验方法 | 第34-35页 |
| 3.2.2 GO和RGO的粒径增长随电解质浓度的变化规律 | 第35-38页 |
| 3.3 小结 | 第38-39页 |
| 第4章 氧化石墨烯和还原氧化石墨烯的沉积动力学研究 | 第39-55页 |
| 4.1 沉积动力学测定原理 | 第39-40页 |
| 4.2 实验方法 | 第40-42页 |
| 4.3 GO和RGO在氧化硅表面的沉积 | 第42-43页 |
| 4.4 DLVO理论计算对于SIO_2表面沉积行为的预测 | 第43-48页 |
| 4.4.1 颗粒-界面间DLVO相互作用势能的计算 | 第43-46页 |
| 4.4.2 氧化硅表面的沉积DLVO相互作用能曲线 | 第46-48页 |
| 4.5 有利沉积条件下的沉积速率和沉积效率的确定 | 第48-50页 |
| 4.6 GO和RGO在氧化铝表面的沉积 | 第50-51页 |
| 4.7 沉积层粘弹性分析 | 第51-53页 |
| 4.8 小结 | 第53-55页 |
| 第5章 微模型模拟的多孔介质迁移实验研究 | 第55-73页 |
| 5.1 微模型的设计和制作工艺流程 | 第55-60页 |
| 5.1.1 微模型的设计 | 第55-56页 |
| 5.1.2 SiO_2微模型的制作工艺流程 | 第56-59页 |
| 5.1.3 Al_2O_3微模型的制作工艺流程 | 第59-60页 |
| 5.2 微模型孔隙迁移实验和滞留颗粒的定量方法 | 第60-61页 |
| 5.3 GO和RGO在微模型孔隙内的迁移规律 | 第61-69页 |
| 5.3.1 经典过滤理论在纳米颗粒的孔隙水平迁移中的应用 | 第61-62页 |
| 5.3.2 微模型孔隙内GO的迁移和滞留机制 | 第62-64页 |
| 5.3.3 微模型孔隙内RGO的迁移和滞留机制 | 第64-65页 |
| 5.3.4 微模型孔隙内的滞留随时间的变化 | 第65-66页 |
| 5.3.5 微模型孔隙局部区域的筛滤过程 | 第66-68页 |
| 5.3.6 截留和筛滤影响下的GO和RGO穿透规律 | 第68-69页 |
| 5.4 孔隙内的滞留效率随离子强度的变化 | 第69-71页 |
| 5.5 小结 | 第71-73页 |
| 第6章 总结和展望 | 第73-76页 |
| 6.1 论文主要结论 | 第73-74页 |
| 6.2 创新点 | 第74-75页 |
| 6.3 工作展望 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-85页 |
| 致谢 | 第85-86页 |
| 论文成果 | 第86-87页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第87页 |
