| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第10-17页 |
| 1.1 课题研究背景与意义 | 第10-12页 |
| 1.2 直流电弧试验国内外研究现状 | 第12-14页 |
| 1.3 直流电弧微观国内外研究现状 | 第14-16页 |
| 1.4 本文主要研究内容 | 第16-17页 |
| 第2章 气体放电机理及数学模型的建立与求解 | 第17-27页 |
| 2.1 气体放电的基本过程和物理特性 | 第17-20页 |
| 2.1.1 金属表面电子发射机理 | 第17-18页 |
| 2.1.2 电弧中的载流子 | 第18-20页 |
| 2.1.3 触头上的能量平衡 | 第20页 |
| 2.2 宏观模型的建立与求解 | 第20-21页 |
| 2.2.1 电场方程 | 第20-21页 |
| 2.2.2 电场边界条件 | 第21页 |
| 2.3 微观模型的建立与求解 | 第21-26页 |
| 2.3.1 基于Boltzmann方程的漂移扩散方程 | 第21-24页 |
| 2.3.2 泊松方程 | 第24页 |
| 2.3.3 电子在壁面的控制方程 | 第24-25页 |
| 2.3.4 触头间粒子的碰撞反应 | 第25页 |
| 2.3.5 重物质输运方程 | 第25-26页 |
| 2.4 本章小结 | 第26-27页 |
| 第3章 多种灭弧介质的直流接触器电弧特性试验 | 第27-40页 |
| 3.1 试验原理 | 第27-28页 |
| 3.2 试验平台整体架构 | 第28-34页 |
| 3.2.1 试验设备介绍 | 第28-33页 |
| 3.2.2 试验平台搭建 | 第33-34页 |
| 3.3 试验结果与分析 | 第34-39页 |
| 3.3.1 灭弧介质对直流接触器电弧特性的影响 | 第34-35页 |
| 3.3.2 气压对直流接触器电弧特性的影响 | 第35-37页 |
| 3.3.3 电流对直流接触器电弧特性的影响 | 第37-39页 |
| 3.4 本章小结 | 第39-40页 |
| 第4章 不同灭弧介质等离子体形成过程微观研究 | 第40-53页 |
| 4.1 不同介质的碰撞反应与碰撞截面 | 第40-43页 |
| 4.1.1 He碰撞反应与碰撞截面 | 第40-41页 |
| 4.1.2 N_2碰撞反应与碰撞截面 | 第41-42页 |
| 4.1.3 H_2碰撞反应与碰撞截面 | 第42-43页 |
| 4.1.4 不同比例的H_2/N_2碰撞反应与碰撞截面 | 第43页 |
| 4.2 仿真模型与参数设置 | 第43-44页 |
| 4.3 仿真结果分析 | 第44-52页 |
| 4.3.1 电弧等离子体形成过程分析 | 第44-46页 |
| 4.3.2 电弧等离子体形成微观参数变化过程分析 | 第46-48页 |
| 4.3.3 不同灭弧介质等离子体形成过程对比分析 | 第48-52页 |
| 4.4 本章小结 | 第52-53页 |
| 第5章 低压直流电弧发展的影响因素分析 | 第53-67页 |
| 5.1 宏观影响因素分析 | 第53-61页 |
| 5.1.1 触头开距对电弧形成及发展的影响 | 第53-55页 |
| 5.1.2 灭弧室内气压对电弧形成及发展的影响 | 第55-56页 |
| 5.1.3 触头间电压对电弧形成及发展的影响 | 第56-58页 |
| 5.1.4 H_2/N_2混合气体比例对电弧形成及发展的影响 | 第58-61页 |
| 5.2 微观影响因素分析 | 第61-66页 |
| 5.2.1 初始电子密度对电弧形成及发展的影响 | 第61-63页 |
| 5.2.2 二次发射系数对电弧形成及发展的影响 | 第63-64页 |
| 5.2.3 电子迁移率对电弧形成及发展的影响 | 第64-66页 |
| 5.3 本章小结 | 第66-67页 |
| 第6章 结论 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-72页 |
| 在学研究成果 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73页 |
