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一种用于双成像光刻中的版图分解算法

摘要第4-5页
Abstract第5页
第一章 绪论第6-16页
    1.1 双成像光刻技术第6-11页
        1.1.1 版图分解第7-9页
        1.1.2 颜色分配第9-10页
        1.1.3 图形合并第10-11页
        1.1.4 掩膜光刻第11页
    1.2 多边形分解算法第11-15页
        1.2.1 使分解后切线总长度最短的多边形分解算法第12页
        1.2.2 使分解后矩形总数最少的多边形分解算法第12-13页
        1.2.3 单方向多边形切割算法第13-14页
        1.2.4 使分解后薄片总数最少的多边形分解算法第14-15页
    1.3 本文主要贡献第15页
    1.4 本文组织结构第15-16页
第二章 与现有算法的具体比较第16-22页
    2.1 与单方向切割算法、切线总长度最小的切割算法的比较第16-17页
    2.2 与矩形总数最少的切割算法的比较第17-18页
    2.3 与矩形总数最少的覆盖算法的比较第18-19页
    2.4 与不允许穿透的矩形总数最少的覆盖算法、薄片总最少的切割算法的比较第19-20页
    2.5 与现有算法比较的小结第20-22页
第三章 算法相关概念定义第22-28页
    3.1 版图中多边形的特点第22-23页
    3.2 当前点、参考边和参考域第23-24页
    3.3 优角形状的情况第24-26页
    3.4 分解距离第26-28页
第四章 版图分解算法第28-34页
    4.1 当前优角和参考边位置关系的情况第28-31页
    4.2 根据位置情况进行分解第31-32页
    4.3 具体分解所体现的优势第32-33页
    4.4 算法流程第33-34页
第五章 实验结果与分析第34-42页
    5.1 软硬件环境第34页
    5.2 算法功能验证第34-38页
    5.3 是否引入交叠的比较第38-42页
第六章 总结与展望第42-43页
    6.1 总结第42页
    6.2 展望第42-43页
参考文献第43-46页
致谢第46-47页

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