| 摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4-5页 |
| 引言 | 第9-10页 |
| 第1章 文献综述 | 第10-30页 |
| 1.1 光催化降解水污染物的研究背景及意义 | 第10-11页 |
| 1.2 半导体光催化原理 | 第11-13页 |
| 1.3 提高光催化剂性能的主要途径 | 第13-19页 |
| 1.3.1 助催化剂 | 第13-14页 |
| 1.3.2 元素掺杂 | 第14-16页 |
| 1.3.3 表面光敏化 | 第16页 |
| 1.3.4 半导体复合 | 第16-17页 |
| 1.3.5 新型可见光催化剂 | 第17-18页 |
| 1.3.6 光电催化 | 第18-19页 |
| 1.4 本论文涉及的两类光催化剂简介 | 第19-28页 |
| 1.4.1 TiO_2光催化剂及其研究进展 | 第19-23页 |
| 1.4.2 g-C_3N_4光催化剂及其研究进展 | 第23-28页 |
| 1.5 文献小结及本论文要开展的工作 | 第28-30页 |
| 第2章 实验方法 | 第30-36页 |
| 2.1 化学药品及仪器设备 | 第30-31页 |
| 2.2 催化剂的表征 | 第31-33页 |
| 2.2.1 X射线衍射(XRD)分析 | 第31-32页 |
| 2.2.2 紫外可见漫反射（UV-Vis DRS）分析 | 第32页 |
| 2.2.3 扫描电子显微镜（SEM） | 第32页 |
| 2.2.4 透射电子显微镜（TEM） | 第32页 |
| 2.2.5 X射线光电子能谱（XPS）分析 | 第32-33页 |
| 2.2.6 光催化剂的光电性能表征 | 第33页 |
| 2.3 催化剂的制备 | 第33-34页 |
| 2.3.1 TiO_2纳米线的制备 | 第33页 |
| 2.3.2 g-C_3N_4/TiO_2纳米线的制备 | 第33-34页 |
| 2.3.3 共聚合改性g-C_3N_4催化剂的制备 | 第34页 |
| 2.3.4 共聚合改性g-C_3N_4/TiO_2纳米线的制备 | 第34页 |
| 2.4 光催化剂降解的反应评价装置及评价方法 | 第34-36页 |
| 2.4.1 液相光催化反应系统 | 第34页 |
| 2.4.2 光电催化活性表征 | 第34页 |
| 2.4.3 降解中间产物的测定 | 第34-35页 |
| 2.4.4 总有机碳（TOC）分析 | 第35-36页 |
| 第3章g-C_3N_4/TiO_2纳米线的制备及其光电催化降解双酚A性能研究 | 第36-51页 |
| 3.1 g-C_3N_4/TiO_2纳米线的表征 | 第36-44页 |
| 3.1.1 g-C_3N_4/TiO_2纳米线的XRD表征 | 第36-37页 |
| 3.1.2 g-C_3N_4/TiO_2纳米线的UV-Vis表征 | 第37-38页 |
| 3.1.3 g-C_3N_4/TiO_2纳米线的SEM表征 | 第38-40页 |
| 3.1.4 g-C_3N_4/TiO_2纳米线的TEM表征 | 第40页 |
| 3.1.5 g-C_3N_4/TiO_2纳米线的XPS表征 | 第40-42页 |
| 3.1.6 g-C_3N_4/TiO_2纳米线的光电表征 | 第42-44页 |
| 3.2 催化剂活性评价 | 第44-50页 |
| 3.2.1 光电催化降解双酚A活性测试方法 | 第44页 |
| 3.2.2 光电催化降解双酚A活性测试结果与讨论 | 第44-47页 |
| 3.2.3 光电催化降解双酚A机理讨论 | 第47-49页 |
| 3.2.4 g-C_3N_4/TiO_2异质结构降解活性提高原因探讨 | 第49-50页 |
| 3.3 本章小结 | 第50-51页 |
| 第4章 改性g-C_3N_4/TiO_2纳米线的制备表征及其光电催化降解亚甲基蓝性能研究 | 第51-67页 |
| 4.1 改性g-C_3N_4的表征 | 第51-56页 |
| 4.1.1 改性g-C_3N_4的XRD表征 | 第51-52页 |
| 4.1.2 改性g-C_3N_4的UV-Vis表征 | 第52-53页 |
| 4.1.3 改性g-C_3N_4的SEM表征及EDX分析 | 第53-55页 |
| 4.1.4 改性g-C_3N_4的TEM表征 | 第55-56页 |
| 4.2 改性g-C_3N_4的活性评价及反应机理 | 第56-58页 |
| 4.2.1 改性g-C_3N_4的活性评价 | 第56-57页 |
| 4.2.2 改性g-C_3N_4的反应机理 | 第57-58页 |
| 4.3 改性g-C_3N_4/TiO_2纳米线的表征 | 第58-63页 |
| 4.3.1 改性g-C_3N_4/TiO_2纳米线的XRD表征 | 第58-59页 |
| 4.3.2 改性g-C_3N_4/TiO_2纳米线的UV-Vis表征 | 第59-60页 |
| 4.3.3 改性g-C_3N_4/TiO_2纳米线的SEM表征及EDX分析 | 第60-61页 |
| 4.3.4 改性g-C_3N_4/TiO_2纳米线的TEM表征 | 第61-62页 |
| 4.3.5 改性g-C_3N_4/TiO_2纳米线的XPS表征 | 第62-63页 |
| 4.4 改性g-C_3N_4/TiO_2纳米线的活性评价及反应机理 | 第63-66页 |
| 4.4.1 改性g-C_3N_4/TiO_2纳米线的活性评价 | 第63-65页 |
| 4.4.2 改性g-C_3N_4/TiO_2纳米线的活性提高机理 | 第65-66页 |
| 4.5 本章小结 | 第66-67页 |
| 第5章 结论 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-76页 |
| 致谢 | 第76页 |
