| 中文摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第11-30页 |
| 1.1 引言 | 第11页 |
| 1.2 多级结构纳米材料的概述 | 第11-15页 |
| 1.3 氧化镍基多级结构材料的制备与气敏性能 | 第15-25页 |
| 1.3.1 氧化镍多级结构材料的制备与气敏性能 | 第15-20页 |
| 1.3.2 氧化镍基多级结构材料的制备与气敏性能 | 第20-25页 |
| 1.4 NiO基多级结构材料对H2S气体的气敏性能研究 | 第25-27页 |
| 1.5 选题依据及研究的主要内容 | 第27-30页 |
| 第2章 实验部分 | 第30-36页 |
| 2.1 主要试剂和仪器 | 第30-31页 |
| 2.1.1 实验主要试剂 | 第30页 |
| 2.1.2 主要测试仪器 | 第30-31页 |
| 2.2 氧化镍基纳米材料的制备 | 第31-32页 |
| 2.2.1 多级结构NiO纳米墙阵列的制备 | 第31页 |
| 2.2.2 褶皱状多孔的CdO/NiO薄膜的制备 | 第31页 |
| 2.2.3 多级结构CuO/NiO纳米墙阵列的制备 | 第31-32页 |
| 2.3 氧化镍基纳米材料的表征 | 第32-33页 |
| 2.3.1 X-射线粉末衍射分析 (XRD) | 第32页 |
| 2.3.2 扫描电子显微镜观察 (SEM) | 第32页 |
| 2.3.3 透射电子显微镜观察 (TEM) | 第32页 |
| 2.3.4 X-射线光电子能谱分析 (XPS) | 第32页 |
| 2.3.5 气相色谱-质谱分析 (GC-MS) | 第32-33页 |
| 2.3.6 比表面积测试分析 (BET) | 第33页 |
| 2.4 气敏元件的制备及气敏性能测试 | 第33-36页 |
| 2.4.1 薄膜型气敏元件的制备及气敏性能测试 | 第33-34页 |
| 2.4.2 厚膜型气敏元件的制备及气敏性能测试 | 第34页 |
| 2.4.3 湿敏性能测试 | 第34-35页 |
| 2.4.4 气敏特性参数 | 第35-36页 |
| 第3章 多级结构NiO纳米墙阵列的制备及气敏性能研究 | 第36-54页 |
| 3.1 反应条件对产物形貌及气敏性能的影响 | 第36-39页 |
| 3.1.1 NiSO_4·6H_2O浓度对产物形貌及气敏性能的影响 | 第36-37页 |
| 3.1.2 反应温度对产物形貌及气敏性能的影响 | 第37-38页 |
| 3.1.3 反应时间对产物形貌及气敏性能的影响 | 第38-39页 |
| 3.2 多级结构NiO纳米墙阵列的结构表征 | 第39-43页 |
| 3.2.1 NiO纳米墙阵列的物相分析 | 第39-40页 |
| 3.2.2 NiO纳米墙阵列的拉曼光谱分析 | 第40-41页 |
| 3.2.3 NiO纳米墙阵列的形貌分析 | 第41-42页 |
| 3.2.4 NiO纳米墙阵列的比表面积分析 | 第42-43页 |
| 3.3 多级结构NiO纳米墙阵列的生长机理 | 第43-44页 |
| 3.4 多级结构NiO纳米墙阵列的气敏性能 | 第44-48页 |
| 3.5 NiO纳米墙阵列的H2S敏感机理 | 第48-52页 |
| 3.6 本章小结 | 第52-54页 |
| 第4章 褶皱状多孔的CdO/NiO薄膜的制备及气敏性能研究 | 第54-68页 |
| 4.1 反应条件对产物形貌及气敏性能的影响 | 第54-57页 |
| 4.1.1 Cd(Ac)_2·2H_2O浓度对产物形貌及气敏性能的影响 | 第54-55页 |
| 4.1.2 反应温度对产物形貌及气敏性能的影响 | 第55-56页 |
| 4.1.3 反应时间对产物形貌及气敏性能的影响 | 第56-57页 |
| 4.2 褶皱状多孔的CdO/NiO薄膜的结构表征 | 第57-60页 |
| 4.2.1 CdO/NiO薄膜的物相分析 | 第57-59页 |
| 4.2.2 CdO/NiO薄膜的形貌分析 | 第59-60页 |
| 4.2.3 CdO/NiO薄膜的比表面积分析 | 第60页 |
| 4.3 褶皱状多孔的CdO/NiO薄膜的气敏性能 | 第60-65页 |
| 4.4 褶皱状多孔的CdO/NiO薄膜的敏感机理 | 第65-67页 |
| 4.5 本章小结 | 第67-68页 |
| 第5章 多级结构CuO/NiO纳米墙阵列的制备及气敏性能研究 | 第68-83页 |
| 5.1 反应条件对产物形貌及气敏性能的影响 | 第68-72页 |
| 5.1.1 Cu(Ac)_2·H_2O浓度对产物形貌及气敏性能的影响 | 第68-69页 |
| 5.1.2 反应温度对产物形貌及气敏性能的影响 | 第69-70页 |
| 5.1.3 反应时间对产物形貌及气敏性能的影响 | 第70-72页 |
| 5.2 多级结构CuO/NiO纳米墙阵列的结构表征 | 第72-75页 |
| 5.2.1 CuO/NiO纳米墙阵列的物相分析 | 第72-73页 |
| 5.2.2 CuO/NiO纳米墙阵列的形貌分析 | 第73-75页 |
| 5.2.3 CuO/NiO纳米墙阵列的比表面积分析 | 第75页 |
| 5.3 多级结构CuO/NiO纳米墙阵列的气敏性能 | 第75-79页 |
| 5.4 多级结构CuO/NiO纳米墙阵列的气敏机理 | 第79-81页 |
| 5.5 本章小结 | 第81-83页 |
| 结论 | 第83-84页 |
| 参考文献 | 第84-95页 |
| 致谢 | 第95-96页 |
| 攻读硕士期间发表和投稿的学术论文 | 第96页 |
