| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第一章 绪论 | 第9-22页 |
| 1.1 引言 | 第9-10页 |
| 1.2 Si衬底上制备有序PS纳米球薄膜的方法 | 第10-13页 |
| 1.2.1 LB法 | 第10-11页 |
| 1.2.2 空气-水界面漂浮法 | 第11页 |
| 1.2.3 涡旋表面法 | 第11-12页 |
| 1.2.4 旋涂法 | 第12-13页 |
| 1.3 Si基坑型图形衬底上有序Ge/Si纳米结构的制备 | 第13-17页 |
| 1.3.1 Si基坑型图形衬底的制备 | 第14页 |
| 1.3.2 二维有序Ge/Si量子点的制备 | 第14-16页 |
| 1.3.3 三维有序Ge/Si量子点的制备 | 第16-17页 |
| 1.3.4 有序Ge/Si纳米环的制备 | 第17页 |
| 1.4 Si基纳米柱图形衬底上制备有序Ge/Si纳米结构 | 第17-19页 |
| 1.4.1 Si基柱型图形衬底的制备 | 第17-18页 |
| 1.4.2 有序Ge/Si量子点分子的制备 | 第18-19页 |
| 1.5 有序Ge量子点光学性质优势 | 第19-20页 |
| 1.6 本课题的来源和论文主要研究内容 | 第20-21页 |
| 1.6.1 本课题来源 | 第20页 |
| 1.6.2 本论文的主要研究内容 | 第20-21页 |
| 1.7 本论文工作特色和亮点 | 第21-22页 |
| 第二章 实验概述与表征方法 | 第22-35页 |
| 2.1 实验整体方案 | 第22页 |
| 2.2 实验仪器简介 | 第22-30页 |
| 2.2.1 离子束溅射设备 | 第22-24页 |
| 2.2.2 去离子水机 | 第24-26页 |
| 2.2.3 其他基片清洗辅助设备 | 第26-27页 |
| 2.2.4 仪器操作及样品清洗过程 | 第27-30页 |
| 2.3 纳米球刻蚀技术 | 第30-31页 |
| 2.4 样品表征仪器简介 | 第31-35页 |
| 2.4.1 原子力显微镜 | 第31页 |
| 2.4.2 扫描电子显微镜 | 第31-33页 |
| 2.4.3 拉曼光谱仪 | 第33-34页 |
| 2.4.4 光致发光 | 第34-35页 |
| 第三章 NSL优化及有序Si纳米团簇制备 | 第35-50页 |
| 3.1 引言 | 第35页 |
| 3.2 实验过程 | 第35-42页 |
| 3.2.1 优化纳米球排版实验 | 第36-39页 |
| 3.2.2 Si基纳米坑图形衬底的制备 | 第39-40页 |
| 3.2.3 Si基图形衬底上溅射生长有序Si纳米团簇 | 第40-42页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第42-45页 |
| 3.3.1 表面形貌分析 | 第42-43页 |
| 3.3.2 生长机理分析 | 第43-45页 |
| 3.4 光学性质表征 | 第45-48页 |
| 3.5 本章小结 | 第48-50页 |
| 第四章 有序Ge/Si量子点制备及光学性质研究 | 第50-67页 |
| 4.1 引言 | 第50-51页 |
| 4.2 实验方法 | 第51-53页 |
| 4.2.1 正交试验法 | 第51-52页 |
| 4.2.2 实验过程 | 第52-53页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第53-63页 |
| 4.3.1 表面形貌分析 | 第53-59页 |
| 4.3.2 量子点成核机理及分析 | 第59-63页 |
| 4.4 光学性质表征 | 第63-65页 |
| 4.5 本章小结 | 第65-67页 |
| 第五章 总结与展望 | 第67-70页 |
| 5.1 研究工作取得的主要结果 | 第67-68页 |
| 5.2 后续研究展望 | 第68-70页 |
| 参考文献 | 第70-80页 |
| 附录 攻读硕士期间发表的论文和获得的奖励 | 第80-81页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第80页 |
| 攻读硕士期间申请的发明专利 | 第80页 |
| 攻读硕士期间主持的项目 | 第80页 |
| 攻读硕士期间获得的奖励 | 第80-81页 |
| 致谢 | 第81页 |
