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双层金属腔体屏蔽效能的理论研究

摘要第5-6页
Abstract第6-7页
第1章 绪论第10-16页
    1.1 研究背景及意义第10-11页
    1.2 国内外研究现状以及发展动态第11-14页
    1.3 论文的主要研究工作第14-16页
第2章 双层金属腔体的近场屏蔽效能理论研究第16-30页
    2.1 引言第16页
    2.2 模型的建立与分析第16-20页
        2.2.1 模型的建立第16-18页
        2.2.2 孔缝耦合等效为磁偶极子第18-19页
        2.2.3 孔缝耦合等效为电偶极子第19-20页
    2.3 模型的验证第20-23页
    2.4 各种因素对腔体屏蔽效能的影响第23-29页
        2.4.1 目标点位置对屏蔽效能的影响第23-24页
        2.4.2 孔缝位置对屏蔽效能的影响第24-25页
        2.4.3 场源位置对屏蔽效能的影响第25页
        2.4.4 孔缝形状对屏蔽效能的影响第25-27页
        2.4.5 腔体电导率对屏蔽效能的影响第27-29页
    2.5 本章小结第29-30页
第3章 电容窗对双层金属腔体屏蔽效能的影响第30-39页
    3.1 引言第30页
    3.2 模型的建立与分析第30-33页
        3.2.1 模型的建立第30-31页
        3.2.2 电容窗看作矩形窄缝第31-32页
        3.2.3 电容窗看作矩形宽缝第32-33页
    3.3 模型的验证第33-34页
        3.3.1 电容窗看作矩形窄缝第33-34页
        3.3.2 电容窗看作矩形宽缝第34页
    3.4 各种因素对腔体屏蔽效能的影响第34-38页
        3.4.1 电容窗间距对屏蔽效能的影响第34-35页
        3.4.2 目标点位置对屏蔽效能的影响第35-37页
        3.4.3 电容窗中心点位置对屏蔽效能的影响第37-38页
    3.5 本章小结第38-39页
第4章 内置条状金属板的双层金属腔体屏蔽效能解析模型第39-50页
    4.1 引言第39-40页
    4.2 模型的建立与分析第40-44页
        4.2.1 模型的建立第40页
        4.2.2 孔缝耦合等效为磁偶极子时内层腔体的电场分布第40-42页
        4.2.3 孔缝耦合等效为电偶极子时内层腔体的电场分布第42-44页
    4.3 模型的验证第44-45页
        4.3.1 条状金属板垂直于xoz平面第44-45页
        4.3.2 条状金属板平行于xoz平面第45页
    4.4 各种因素对腔体屏蔽效能的影响第45-49页
        4.4.1 条状金属板位置对屏蔽效能的影响第45-48页
            4.4.1.1 条状金属板垂直于xoz平面第45-46页
            4.4.1.2 条状金属板平行于xoz平面第46-48页
        4.4.2 条状金属板角度对屏蔽效能的影响第48-49页
    4.5 本章小结第49-50页
第5章 结论与展望第50-52页
    5.1 结论第50-51页
    5.2 展望第51-52页
参考文献第52-55页
攻读硕士学位期间发表的学术论文第55-56页
攻读硕士学位期间参加的科研工作第56-57页
致谢第57页

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