氧化亚铜粉末、薄膜的制备及其光催化性能研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-11页 |
| 1. 文献综述 | 第11-30页 |
| ·氧化亚铜的基本性质及应用 | 第11-14页 |
| ·氧化亚铜的基本性质 | 第11页 |
| ·氧化亚铜的晶体结构 | 第11-12页 |
| ·氧化亚铜的应用前景 | 第12-14页 |
| ·氧化亚铜粉末的制备方法 | 第14-19页 |
| ·烧结法 | 第14-15页 |
| ·电解法 | 第15页 |
| ·湿化学还原法 | 第15-19页 |
| ·氧化亚铜薄膜的制备方法 | 第19-24页 |
| ·磁控溅射法 | 第19-20页 |
| ·金属有机化合物气相沉积法 | 第20页 |
| ·喷雾热解法 | 第20-21页 |
| ·热氧化法 | 第21页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第21页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第21-22页 |
| ·电化学沉积法 | 第22页 |
| ·活性反应蒸发法 | 第22页 |
| ·化学浴沉积法 | 第22-24页 |
| ·光催化氧化的研究综述 | 第24-27页 |
| ·半导体光催化机理 | 第24-26页 |
| ·半导体光催化的应用 | 第26-27页 |
| ·本论文的选题意义及其研究内容 | 第27-30页 |
| 2 实验部分 | 第30-37页 |
| ·实验仪器 | 第30页 |
| ·实验药品 | 第30-31页 |
| ·氧化亚铜粉末的制备工艺 | 第31-32页 |
| ·氧化亚铜薄膜的制备工艺 | 第32-34页 |
| ·化学浴沉积法在玻璃表面制备氧化亚铜薄膜工艺 | 第32-33页 |
| ·液相还原法在铜片表面制备氧化亚铜薄膜工艺 | 第33-34页 |
| ·光催化实验方法 | 第34-35页 |
| ·样品表征 | 第35-37页 |
| 3 氧化亚铜粉末的制备及其光催化性能研究 | 第37-51页 |
| ·实验过程及原理 | 第37-38页 |
| ·氧化亚铜粉末制备结果及讨论 | 第38-46页 |
| ·单因素水平实验 | 第38-41页 |
| ·正交实验结果及讨论 | 第41-46页 |
| ·氧化亚铜粉末光催化降解海水中苯酚研究 | 第46-50页 |
| ·氧化亚铜光催化降解苯酚 | 第46-47页 |
| ·氯离子对光催化性能的影响 | 第47-48页 |
| ·催化剂浓度的影响 | 第48-49页 |
| ·溶液pH值的影响 | 第49-50页 |
| ·小结 | 第50-51页 |
| 4 氧化亚铜薄膜的制备及其光催化性能初探 | 第51-66页 |
| ·化学浴沉积法在玻璃表面制备氧化亚铜薄膜 | 第51-58页 |
| ·实验方法及原理 | 第51-52页 |
| ·实验结果及工艺探讨 | 第52-58页 |
| ·氧化亚铜薄膜的光催化性能研究 | 第58-60页 |
| ·薄膜光催化实验结果及讨论 | 第58-60页 |
| ·液相还原法在铜片表面制备氧化亚铜薄膜 | 第60-64页 |
| ·实验方法及原理 | 第60页 |
| ·实验结果及工艺探讨 | 第60-64页 |
| ·小结 | 第64-66页 |
| 5 结论 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 个人简历 | 第74页 |
| 发表的学术论文 | 第74页 |
