| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-19页 |
| 1.1 研究背景 | 第9-11页 |
| 1.2 国内外研究概况 | 第11-16页 |
| 1.3 主要研究内容及研究意义 | 第16-17页 |
| 1.4 本章小结 | 第17-19页 |
| 2 闪烁晶体超精密加工 | 第19-47页 |
| 2.1 闪烁晶体选型 | 第19-20页 |
| 2.2 闪烁晶体硬度测试 | 第20-25页 |
| 2.3 稀疏排列样品磨削实验 | 第25-32页 |
| 2.4 密集排列样品磨削抛光实验 | 第32-43页 |
| 2.5 磁流变抛光 | 第43-46页 |
| 2.6 本章小结 | 第46-47页 |
| 3 基于闪烁晶体闪烁特性的高反射膜设计 | 第47-77页 |
| 3.1 引言 | 第47-48页 |
| 3.2 光学反射膜设计理论及仿真设计工具 | 第48-53页 |
| 3.3 多层膜结构高反射率薄膜设计 | 第53-71页 |
| 3.4 金属反射膜 | 第71-75页 |
| 3.5 本章小结 | 第75-77页 |
| 4 高反射膜镀制及性能表征 | 第77-90页 |
| 4.1 基于Ta_2O_5/SiO_2多层膜预镀制 | 第77-81页 |
| 4.2 基于TiO_2/SiO_2/HfO_2高反射膜系镀制 | 第81-89页 |
| 4.3 本章小结 | 第89-90页 |
| 5 基于闪烁晶体闪烁特性的增透膜设计 | 第90-104页 |
| 5.1 引言 | 第90-92页 |
| 5.2 空气为耦合介质的增透膜研究 | 第92-96页 |
| 5.3 光学胶水为耦合介质的多层减反射膜研究 | 第96-102页 |
| 5.4 本章小结 | 第102-104页 |
| 6 总结与展望 | 第104-107页 |
| 6.1 全文总结 | 第104-105页 |
| 6.2 课题展望 | 第105-107页 |
| 致谢 | 第107-108页 |
| 参考文献 | 第108-113页 |
| 附录1（攻读学位期间发表论文目录） | 第113-114页 |
| 附录2（攻读学位期间申请专利目录） | 第114-115页 |