高精度MEMS加速度计中欧姆接触工艺研究
摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
1 绪论 | 第8-15页 |
1.1 课题研究背景 | 第8-9页 |
1.2 欧姆接触研究概况 | 第9-13页 |
1.3 硕士期间的主要工作 | 第13-15页 |
2 欧姆接触的能带理论与测试方法 | 第15-26页 |
2.1 金硅欧姆接触的能带理论 | 第15-17页 |
2.2 金硅欧姆接触的电阻率的理论计算 | 第17-20页 |
2.3 欧姆接触的接触电阻率的测试方法 | 第20-25页 |
2.4 本章小结 | 第25-26页 |
3 金锑欧姆接触的工艺过程 | 第26-47页 |
3.1 金锑欧姆接触的合金过程 | 第26-29页 |
3.2 金锑欧姆接触的工艺过程 | 第29-32页 |
3.3 金锑欧姆接触制备的工艺效果评价 | 第32-46页 |
3.4 本章小结 | 第46-47页 |
4 金锑欧姆接触的工艺条件测试 | 第47-63页 |
4.1 时间等对金锑欧姆接触的影响 | 第47-52页 |
4.2 温度对金锑欧姆接触的影响 | 第52-55页 |
4.3 环形传输线模型的结果验证 | 第55-56页 |
4.4 金锑欧姆接触的稳定性测量 | 第56-62页 |
4.5 本章小结 | 第62-63页 |
5 总结与展望 | 第63-65页 |
致谢 | 第65-66页 |
参考文献 | 第66-71页 |
附录1 硕士期间完成的论文 | 第71-72页 |
附录2 硅的基本参数与某组实际退火曲线 | 第72页 |