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BaZr0.2Ti0.8O3和BaSn0.15Ti0.85O3薄膜脉冲激光沉积法制备及介电性能研究

摘要第4-6页
ABSTRACT第6-8页
第一章 绪论第12-26页
    1.1 前言第12-13页
    1.2 微波压控介电材料第13-17页
        1.2.1 微波压控介电材料的研究近况第13页
        1.2.2 微波压控薄膜材料第13-16页
        1.2.3 微波压控介电薄膜材料的分类第16-17页
    1.3 锆钛酸钡铁电材料第17-21页
        1.3.1 铁电材料概述第17-18页
        1.3.2 BZT铁电材料的晶体结构第18-20页
        1.3.3 BZT材料的研究现状第20-21页
    1.4 锡钛酸钡材料第21页
    1.5 本文的主要工作第21-23页
    参考文献第23-26页
第二章 锆钛酸钡薄膜的制备及表征方法第26-39页
    2.1 引言第26页
    2.2 薄膜制备方法第26-31页
        2.2.1 溶胶-凝胶法第26-27页
        2.2.2 磁控溅射法第27-28页
        2.2.3 脉冲激光沉积技术第28-31页
    2.3 表征方法第31-35页
        2.3.1 微观结构的表征第31-34页
        2.3.2 电学性能测试第34-35页
    2.4 电极的制备方法第35-36页
        2.4.1 离子溅射仪第35页
        2.4.2 DM220型高真空镀膜台第35-36页
    2.5 本章主要内容第36-37页
    参考文献第37-39页
第三章 不同衬底温度的BZT薄膜的介电性能研究第39-60页
    3.1 引言第39-40页
    3.2 实验工艺第40-45页
        3.2.1 锆钛酸钡陶瓷靶材的制备第40-45页
        3.2.2 BZT薄膜的制备第45页
    3.3 不同衬底温度对BZT薄膜介电性能的影响第45-55页
        3.3.1 BZT薄膜的晶体结构随衬底温度变化的研究第46-47页
        3.3.2 BZT薄膜的形貌分析第47页
        3.3.3 BZT薄膜的介电性随衬底温度变化的研究第47-55页
    3.4 本章小结第55-56页
    参考文献第56-60页
第四章 在不同衬底上沉积的BZT薄膜以及BZT和BTS单双层复合薄膜的性质研究第60-80页
    4.1 引言第60-61页
    4.2 薄膜的制备第61页
    4.3 不同衬底上生长的BZT薄膜的性质研究第61-69页
        4.3.1 不同衬底上生长的BZT薄膜的晶体结构分析第61-62页
        4.3.2 不同衬底上生长的BZT薄膜的表面形貌研究第62-63页
        4.3.3 衬底对BZT薄膜电学性质的影响第63-69页
    4.4 BZT和BTS双层复合膜的介电特性质研究第69-75页
        4.4.1 BZT和BTS复合膜的制备第69-70页
        4.4.2 薄膜晶体结构特性的研究第70-71页
        4.4.3 BZT和BTS复合薄膜的微观形貌研究第71页
        4.4.4 BZT和BTS复合膜的介电常数随频率的变化该关系第71-73页
        4.4.5 BZT和BTS复合膜的介电调谐特性的研究第73-74页
        4.4.6 BZT和BTS复合膜的漏电流密度测试第74-75页
    4.5 本章小结第75-76页
    参考文献第76-80页
第五章 总结第80-82页
攻读硕士期间发表的论文第82-84页
致谢第84-85页

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