摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第一章 文献综述 | 第12-30页 |
1.1 超导材料发展历史 | 第12-14页 |
1.2 研究超导材料的现实意义 | 第14-18页 |
1.2.1 超导材料对经济、社会及环境的意义 | 第14-15页 |
1.2.2 超导材料对能源、交通、医疗等相关领域的意义 | 第15-17页 |
1.2.3 超导材料对新型陶瓷产业发展的意义 | 第17页 |
1.2.4 超导材料对多学科交叉融合的意义 | 第17-18页 |
1.3 超导带材的结构与制备 | 第18-21页 |
1.3.1 金属基板 | 第18-19页 |
1.3.2 种子层 | 第19页 |
1.3.3 缓冲层 | 第19-20页 |
1.3.4 超导层 | 第20-21页 |
1.3.5 保护层 | 第21页 |
1.4 YBCO超导层的结构、制备与研究现状 | 第21-26页 |
1.4.1 YBCO超导层的结构 | 第21-22页 |
1.4.2 YBCO超导层的制备 | 第22-25页 |
1.4.2.1 三氟乙酸-金属有机沉积法 | 第23页 |
1.4.2.2 脉冲激光沉积法 | 第23-24页 |
1.4.2.3 金属有机化学气相沉积法 | 第24页 |
1.4.2.4 激光化学气相沉积法 | 第24-25页 |
1.4.3 YBCO高温超导带材的研究现状 | 第25-26页 |
1.5 本论文的研究意义及内容 | 第26-30页 |
1.5.1 研究意义 | 第26-27页 |
1.5.2 研究内容 | 第27-30页 |
第二章 实验方法与表征 | 第30-44页 |
2.1 超导层与缓冲层的制备 | 第30-39页 |
2.1.1 实验设备 | 第30-31页 |
2.1.2 前驱体的制备 | 第31-35页 |
2.1.2.1 HDPM的制备 | 第31-32页 |
2.1.2.2 Y(DPM)_3 的制备 | 第32-33页 |
2.1.2.3 Ba(DPM)_2 的制备 | 第33页 |
2.1.2.4 Cu(DPM)_2 的制备 | 第33-34页 |
2.1.2.5 Ce(DPM)_4 的制备 | 第34-35页 |
2.1.3 YBCO前驱体溶液的合成 | 第35页 |
2.1.4 SAC-LCVD设备 | 第35-39页 |
2.1.4.1 喷液雾化多元共析液体原料供应系统 | 第35-37页 |
2.1.4.2 智能控制系统 | 第37页 |
2.1.4.3 SAC-LCVD设备优点 | 第37-39页 |
2.1.4.4 SAC-LCVD设备参数 | 第39页 |
2.2 YBCO薄膜的分析表征方法 | 第39-44页 |
2.2.1 X射线衍射分析 | 第40-41页 |
2.2.2 X射线衍射极图 | 第41-42页 |
2.2.3 电子场发射扫描电镜 | 第42页 |
2.2.4 YBCO薄膜电学性能的测量 | 第42-44页 |
第三章 激光功率对制备YBCO薄膜的研究 | 第44-54页 |
3.1 制备YBCO薄膜的工艺参数 | 第44-45页 |
3.2 激光功率对YBCO薄膜晶相结构研究 | 第45-46页 |
3.3 激光功率对YBCO薄膜结晶度与面内取向研究 | 第46-47页 |
3.4 激光功率对YBCO薄膜晶粒面内外延生长模式研究 | 第47-49页 |
3.5 激光功率对YBCO薄膜显微结构研究 | 第49-50页 |
3.6 激光功率对YBCO薄膜电学性能研究 | 第50-53页 |
3.7 小结 | 第53-54页 |
第四章 外延生长不同取向YBCO薄膜的研究 | 第54-64页 |
4.1 制备不同取向YBCO薄膜的工艺参数 | 第54页 |
4.2 YBCO薄膜晶相结构研究 | 第54-56页 |
4.3 YBCO薄膜晶粒的面内外延生长关系研究 | 第56-61页 |
4.4 小结 | 第61-64页 |
第五章 制备高度(100)取向CeO_2薄膜的研究 | 第64-72页 |
5.1 制备CeO_2缓冲层的工艺参数 | 第64-65页 |
5.2 CeO_2薄膜晶相结构研究 | 第65-67页 |
5.3 CeO_2薄膜结晶度及面内取向度研究 | 第67-68页 |
5.4 CeO_2薄膜面内外延生长关系研究 | 第68-69页 |
5.5 CeO_2薄膜的显微结构研究 | 第69-70页 |
5.6 小结 | 第70-72页 |
第六章 结论与展望 | 第72-74页 |
6.1 结论 | 第72-73页 |
6.2 展望 | 第73-74页 |
参考文献 | 第74-84页 |
攻读硕士期间发表的论文与专利 | 第84-86页 |
致谢 | 第86页 |