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纳米压印在制备双色发光图案及负折射系数材料中的应用

内容提要第5-10页
第1章 绪论第10-42页
    1.1 引言第10-11页
    1.2 纳米压印技术研究概述第11-18页
        1.2.1 纳米压印技术的发明和发展第11-12页
        1.2.2 热塑纳米压印技术第12-14页
        1.2.3 紫外固化压印技术第14-15页
        1.2.4 微接触印刷技术第15-16页
        1.2.5 传统压印工艺的比较第16-18页
    1.3 纳米压印技术的发展第18-23页
        1.3.1 滚轴式压印第18-19页
        1.3.2 软模板压印第19-20页
        1.3.3 边缘压印第20-21页
        1.3.4 纳米转移印刷第21-22页
        1.3.5 反转压印第22-23页
    1.4 纳米压印技术的应用第23-31页
        1.4.1 光学中的应用第24-25页
        1.4.2 微纳流体中的应用第25-26页
        1.4.3 电子学中的应用第26-27页
        1.4.4 生物电子中的应用第27-29页
        1.4.5 光电子中的应用第29-30页
        1.4.6 数据存储中的应用第30-31页
    1.5 本文的研究思路和主要研究内容第31-33页
    参考文献第33-42页
第2章 边缘压印提高图案分辨率第42-62页
    2.1 引言第42-43页
    2.2 实验部分第43-44页
        2.2.1 仪器和试剂第43页
        2.2.2 模板的低表面能处理第43-44页
        2.2.3 基底的处理及涂膜第44页
    2.3 结果与讨论第44-58页
        2.3.1 膜厚与涂膜速度的关系第44-45页
        2.3.2 膜厚对压印结果的影响第45-49页
        2.3.3 温度对双脊结构的影响第49-52页
        2.3.4 沟槽宽度对双脊结构的影响第52-54页
        2.3.5 制备双脊结构的模板第54-56页
        2.3.6 通过边缘压印构筑其他结构模板第56-58页
    2.4 本章小结第58-59页
    参考文献第59-62页
第3章 倾斜压印制备负折射系数材料第62-82页
    3.1 引言第62-63页
    3.2 仪器和试剂第63-65页
        3.2.1 仪器和试剂第63-64页
        3.2.2 倾斜纳米压印第64-65页
    3.3 结果与讨论第65-76页
        3.3.1 纳米开路电流环谐振器的制备方法第65-69页
        3.3.2 聚合物厚度对开口环形结构的影响第69-72页
        3.3.3 曲面基底上的开路电流环谐振器第72-73页
        3.3.4 小尺寸的纳米开路电流环谐振器第73页
        3.3.5 PDMS变形对纳米开路电流环谐振器的影响第73-74页
        3.3.6 纳米开路电流环谐振器的互补结构第74-76页
    3.4 本章小结第76-78页
    参考文献第78-82页
第4章 双色发光图案的制备第82-100页
    4.1 引言第82-83页
    4.2 仪器和试剂第83-84页
    4.3 染料分子在聚合物中的扩散行为第84-91页
        4.3.1 染料分子在聚合物基底表面的形态第84-85页
        4.3.2 染料分子在聚合物中完全扩散后的形态第85-87页
        4.3.3 单体与聚集体比率随放置时间的变化第87-88页
        4.3.4 加热对染料分子扩散的影响第88-90页
        4.3.5 紫外曝光对荧光发光的影响第90-91页
    4.4 双色发光图案的制备第91-94页
        4.4.1 一步压印法制备双色发光图案第91-93页
        4.4.2 光漂制备双色发光图案第93-94页
    4.5 本章小结第94-96页
    参考文献第96-100页
第5章 结论与展望第100-104页
    5.1 引言第100-101页
    5.2 结论第101-103页
        5.2.1 边缘压印提高结构分辨率第101页
        5.2.2 负折射系数材料的制备第101-102页
        5.2.3 双色发光图案的制备第102-103页
    5.3 展望第103-104页
攻读博士学位期间所发表的论文第104-108页
作者简历第108-110页
致谢第110-112页
摘要第112-115页
Abstract第115-117页

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