内容提要 | 第5-10页 |
第1章 绪论 | 第10-42页 |
1.1 引言 | 第10-11页 |
1.2 纳米压印技术研究概述 | 第11-18页 |
1.2.1 纳米压印技术的发明和发展 | 第11-12页 |
1.2.2 热塑纳米压印技术 | 第12-14页 |
1.2.3 紫外固化压印技术 | 第14-15页 |
1.2.4 微接触印刷技术 | 第15-16页 |
1.2.5 传统压印工艺的比较 | 第16-18页 |
1.3 纳米压印技术的发展 | 第18-23页 |
1.3.1 滚轴式压印 | 第18-19页 |
1.3.2 软模板压印 | 第19-20页 |
1.3.3 边缘压印 | 第20-21页 |
1.3.4 纳米转移印刷 | 第21-22页 |
1.3.5 反转压印 | 第22-23页 |
1.4 纳米压印技术的应用 | 第23-31页 |
1.4.1 光学中的应用 | 第24-25页 |
1.4.2 微纳流体中的应用 | 第25-26页 |
1.4.3 电子学中的应用 | 第26-27页 |
1.4.4 生物电子中的应用 | 第27-29页 |
1.4.5 光电子中的应用 | 第29-30页 |
1.4.6 数据存储中的应用 | 第30-31页 |
1.5 本文的研究思路和主要研究内容 | 第31-33页 |
参考文献 | 第33-42页 |
第2章 边缘压印提高图案分辨率 | 第42-62页 |
2.1 引言 | 第42-43页 |
2.2 实验部分 | 第43-44页 |
2.2.1 仪器和试剂 | 第43页 |
2.2.2 模板的低表面能处理 | 第43-44页 |
2.2.3 基底的处理及涂膜 | 第44页 |
2.3 结果与讨论 | 第44-58页 |
2.3.1 膜厚与涂膜速度的关系 | 第44-45页 |
2.3.2 膜厚对压印结果的影响 | 第45-49页 |
2.3.3 温度对双脊结构的影响 | 第49-52页 |
2.3.4 沟槽宽度对双脊结构的影响 | 第52-54页 |
2.3.5 制备双脊结构的模板 | 第54-56页 |
2.3.6 通过边缘压印构筑其他结构模板 | 第56-58页 |
2.4 本章小结 | 第58-59页 |
参考文献 | 第59-62页 |
第3章 倾斜压印制备负折射系数材料 | 第62-82页 |
3.1 引言 | 第62-63页 |
3.2 仪器和试剂 | 第63-65页 |
3.2.1 仪器和试剂 | 第63-64页 |
3.2.2 倾斜纳米压印 | 第64-65页 |
3.3 结果与讨论 | 第65-76页 |
3.3.1 纳米开路电流环谐振器的制备方法 | 第65-69页 |
3.3.2 聚合物厚度对开口环形结构的影响 | 第69-72页 |
3.3.3 曲面基底上的开路电流环谐振器 | 第72-73页 |
3.3.4 小尺寸的纳米开路电流环谐振器 | 第73页 |
3.3.5 PDMS变形对纳米开路电流环谐振器的影响 | 第73-74页 |
3.3.6 纳米开路电流环谐振器的互补结构 | 第74-76页 |
3.4 本章小结 | 第76-78页 |
参考文献 | 第78-82页 |
第4章 双色发光图案的制备 | 第82-100页 |
4.1 引言 | 第82-83页 |
4.2 仪器和试剂 | 第83-84页 |
4.3 染料分子在聚合物中的扩散行为 | 第84-91页 |
4.3.1 染料分子在聚合物基底表面的形态 | 第84-85页 |
4.3.2 染料分子在聚合物中完全扩散后的形态 | 第85-87页 |
4.3.3 单体与聚集体比率随放置时间的变化 | 第87-88页 |
4.3.4 加热对染料分子扩散的影响 | 第88-90页 |
4.3.5 紫外曝光对荧光发光的影响 | 第90-91页 |
4.4 双色发光图案的制备 | 第91-94页 |
4.4.1 一步压印法制备双色发光图案 | 第91-93页 |
4.4.2 光漂制备双色发光图案 | 第93-94页 |
4.5 本章小结 | 第94-96页 |
参考文献 | 第96-100页 |
第5章 结论与展望 | 第100-104页 |
5.1 引言 | 第100-101页 |
5.2 结论 | 第101-103页 |
5.2.1 边缘压印提高结构分辨率 | 第101页 |
5.2.2 负折射系数材料的制备 | 第101-102页 |
5.2.3 双色发光图案的制备 | 第102-103页 |
5.3 展望 | 第103-104页 |
攻读博士学位期间所发表的论文 | 第104-108页 |
作者简历 | 第108-110页 |
致谢 | 第110-112页 |
摘要 | 第112-115页 |
Abstract | 第115-117页 |