| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 符号说明 | 第9-14页 |
| 引言 | 第14-16页 |
| 第一章 文献综述 | 第16-38页 |
| 1.1 介孔分子筛的研究概述 | 第16-22页 |
| 1.1.1 介孔分子筛合成的基本特征及合成方法 | 第16-17页 |
| 1.1.2 生成机理研究 | 第17-20页 |
| 1.1.3 介孔分子筛的应用 | 第20-22页 |
| 1.2 微-介孔复合分子筛合成的研究进展 | 第22-26页 |
| 1.2.1 软模板法 | 第22-23页 |
| 1.2.2 硬模板法 | 第23-24页 |
| 1.2.3 附晶生长法 | 第24页 |
| 1.2.4 孔壁晶化法 | 第24-25页 |
| 1.2.5 纳米组装法 | 第25-26页 |
| 1.3 介孔分子筛膜的研究概述 | 第26-36页 |
| 1.3.1 无机膜 | 第26页 |
| 1.3.2 介孔分子筛膜 | 第26-27页 |
| 1.3.3 介孔分子筛膜的制备途径 | 第27-32页 |
| 1.3.4 介孔分子筛膜存在的问题及解决方法 | 第32-36页 |
| 1.4 本课题的研究意义和内容 | 第36-38页 |
| 1.4.1 本课题的研究意义 | 第36页 |
| 1.4.2 本课题的研究内容 | 第36-38页 |
| 第二章 实验部分 | 第38-46页 |
| 2.1 实验药品及仪器 | 第38-40页 |
| 2.1.1 实验药品及规格 | 第38-39页 |
| 2.1.2 实验所用气体 | 第39页 |
| 2.1.3 实验仪器及设备 | 第39-40页 |
| 2.2 氧化铝载体及模板剂的制备 | 第40-41页 |
| 2.2.1 载体的制备及预处理 | 第40页 |
| 2.2.2 四丙基氢氧化铵制备及标定 | 第40-41页 |
| 2.3 TI-HMS-1分子筛膜的制备 | 第41-43页 |
| 2.3.1 TS-1溶胶的制备 | 第41页 |
| 2.3.2 Ti-HMS-1合成液的制备及膜的合成 | 第41-43页 |
| 2.4 表征与测试 | 第43-46页 |
| 2.4.1 X射线衍射仪(XRD) | 第43页 |
| 2.4.2 扫描电子显微镜(SEM) | 第43页 |
| 2.4.3 高倍透射电镜(HRTEM) | 第43页 |
| 2.4.4 紫外-可见反射光谱测试仪(UV-vis) | 第43页 |
| 2.4.5 孔径分析 | 第43-44页 |
| 2.4.6 单组份气体渗透测试 | 第44-46页 |
| 第三章 以较长陈化时间得到的合成液实现TI-HMS-1微介孔复合分子筛膜的合成 | 第46-60页 |
| 3.1 氧化铝载体的表征 | 第47-48页 |
| 3.2 TI-HMS-1分子筛膜的低温制备和表征 | 第48-51页 |
| 3.2.1 Ti-HMS-1分子筛膜的低温制备 | 第48-49页 |
| 3.2.2 Ti-HMS-1分子筛膜XRD表征 | 第49页 |
| 3.2.3 Ti-HMS-1分子筛膜SEM表征 | 第49-50页 |
| 3.2.4 Ti-HMS-1分子筛HRTEM表征 | 第50-51页 |
| 3.3 第二步晶化温度对TI-HMS-1分子筛膜合成的影响 | 第51-53页 |
| 3.3.1 Ti-HMS-1分子筛膜XRD表征 | 第51-52页 |
| 3.3.2 Ti-HMS-1分子筛膜SEM表征 | 第52-53页 |
| 3.4 第二步晶化时间对TI-HMS-1分子筛膜合成的影响 | 第53-54页 |
| 3.4.1 XRD表征 | 第53-54页 |
| 3.4.2 SEM表征 | 第54页 |
| 3.5 合成液用量对TI-HMS-1分子筛膜合成的影响 | 第54-59页 |
| 3.5.1 XRD表征 | 第55-56页 |
| 3.5.2 SEM表征 | 第56-59页 |
| 3.6 本章小结 | 第59-60页 |
| 第四章 以较短陈化时间得到的合成液实现TI-HMS-1微介孔复合分子筛膜的合成 | 第60-76页 |
| 4.1 第二步晶化时间的影响 | 第61-63页 |
| 4.1.1 XRD表征 | 第61-62页 |
| 4.1.2 SEM表征 | 第62-63页 |
| 4.2 TS-1溶胶中TI/SI对分子筛膜及骨架钛的影响 | 第63-65页 |
| 4.2.1 XRD表征 | 第63-64页 |
| 4.2.2 SEM表征 | 第64页 |
| 4.2.3 紫外可见漫反射(UV-vis)表征 | 第64-65页 |
| 4.3 第一步晶化时间的影响 | 第65-70页 |
| 4.3.1 XRD表征 | 第66-67页 |
| 4.3.2 SEM表征 | 第67-68页 |
| 4.3.3 HRTEM表征 | 第68-69页 |
| 4.3.4 单组份气体渗透 | 第69-70页 |
| 4.4 第二步晶化温度的影响 | 第70-75页 |
| 4.4.1 XRD表征 | 第70-71页 |
| 4.4.2 SEM表征 | 第71-72页 |
| 4.4.3 HRTEM表征 | 第72-73页 |
| 4.4.4 单组份气体渗透 | 第73-75页 |
| 4.5 本章小结 | 第75-76页 |
| 第五章 结论与展望 | 第76-78页 |
| 5.1 结论 | 第76-77页 |
| 5.2 展望 | 第77-78页 |
| 参考文献 | 第78-88页 |
| 致谢 | 第88-89页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第89页 |
