| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第9-20页 |
| 1.1 研究的目的意义 | 第9-10页 |
| 1.2 宽光谱探测技术的研究现状 | 第10-15页 |
| 1.2.1 光电探测器 | 第10-13页 |
| 1.2.2 硅基探测器紫外增强薄膜 | 第13-15页 |
| 1.3 宽光谱光源的研究现状 | 第15-19页 |
| 1.4 论文的主要工作 | 第19-20页 |
| 第二章 硅基探测器紫外增强薄膜的研究 | 第20-30页 |
| 2.1 薄膜实现紫外增强的原理 | 第20-24页 |
| 2.1.1 光的吸收 | 第20-22页 |
| 2.1.2 荧光的产生 | 第22-23页 |
| 2.1.3 光的散射 | 第23-24页 |
| 2.2 薄膜实现紫外增强应满足的条件 | 第24-25页 |
| 2.3 薄膜性能和旋涂工艺参数优化原理 | 第25-30页 |
| 2.3.1 旋涂法及其工艺参数 | 第25页 |
| 2.3.2 荧光物质的发射光谱与探测器响应光谱的匹配 | 第25-26页 |
| 2.3.3 旋涂胶体溶剂的选择 | 第26页 |
| 2.3.4 薄膜厚度与旋涂转速 | 第26-27页 |
| 2.3.5 荧光强度与荧光物质的浓度 | 第27-30页 |
| 第三章 硅基探测器紫外增强薄膜的制备、检测和优化 | 第30-41页 |
| 3.1 薄膜制备过程 | 第30-31页 |
| 3.2 薄膜特性检测 | 第31页 |
| 3.3 紫外增强薄膜的优化 | 第31-41页 |
| 3.3.1 旋涂溶剂的优化 | 第32-36页 |
| 3.3.2 旋涂转速的优化 | 第36-38页 |
| 3.3.3 荧光物质与旋涂溶剂质量比的优化 | 第38-41页 |
| 第四章 基于离轴抛物面的宽光谱光源 | 第41-49页 |
| 4.1 宽光谱光源的结构 | 第41-46页 |
| 4.1.1 反射镜 | 第42-44页 |
| 4.1.2 基于中心带有通孔的离轴抛物面反射镜光源结构 | 第44-46页 |
| 4.2 光源输出能量分布均匀性和能量传输效率的分析 | 第46-49页 |
| 4.2.1 输出光能量的均匀性 | 第46页 |
| 4.2.2 光能传输效率 | 第46-49页 |
| 第五章 结论和展望 | 第49-51页 |
| 5.1 结论 | 第49页 |
| 5.2 取得的主要创新性成果 | 第49-50页 |
| 5.3 展望 | 第50-51页 |
| 致谢 | 第51-52页 |
| 攻读硕士学位期间所发表的学术论文 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-54页 |
