| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 1 绪论 | 第8-16页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第8-9页 |
| 1.2 光谱成像技术发展现状 | 第9-11页 |
| 1.3 高光谱解混技术研究现状 | 第11-15页 |
| 1.4 本文的主要研究内容与组织结构 | 第15-16页 |
| 2 光谱解混技术 | 第16-24页 |
| 2.1 双线性光谱混合模型 | 第16-20页 |
| 2.2 丰度稀疏约束 | 第20-21页 |
| 2.3 流形正则化 | 第21-23页 |
| 2.4 本章小结 | 第23-24页 |
| 3 基于稀疏表示和流形正则化的高光谱解混算法 | 第24-34页 |
| 3.1 基于稀疏表示的高光谱非线性解混模型 | 第24-26页 |
| 3.2 基于稀疏表示和流形正则化的高光谱非线性解混模型 | 第26-28页 |
| 3.3 模型求解算法 | 第28-33页 |
| 3.4 本章小结 | 第33-34页 |
| 4 实验与结果分析 | 第34-44页 |
| 4.1 合成图像实验结果与分析 | 第35-39页 |
| 4.2 真实高光谱图像实验结果与分析 | 第39-42页 |
| 4.3 本章小结 | 第42-44页 |
| 5 工作总结与展望 | 第44-46页 |
| 致谢 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-51页 |