| 摘要 | 第6-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 目录 | 第9-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-44页 |
| 1.1 引言 | 第12-15页 |
| 1.2 面向等离子体材料 | 第15-16页 |
| 1.3 钨及钨合金的研究现状 | 第16-29页 |
| 1.3.1 钨的基本性能 | 第16-17页 |
| 1.3.2 钨及钨合金改性研究现状 | 第17-21页 |
| 1.3.3 超细晶/纳米晶钨的研究进展 | 第21-29页 |
| 1.3.3.1 “自上而下”(Top-Down)法 | 第22页 |
| 1.3.3.2 “自下而上”(Bottom-Up)法 | 第22页 |
| 1.3.3.3 表面机械研磨处理(SMAT) | 第22-29页 |
| 1.4 钨用作面向等离子体材料所面临的关键问题 | 第29-30页 |
| 1.5 钨在离子辐照作用下的损伤行为 | 第30-40页 |
| 1.5.1 D/T辐照效应 | 第30-32页 |
| 1.5.2 14MeV中子辐照效应 | 第32页 |
| 1.5.3 He辐照效应 | 第32-40页 |
| 1.5.3.1 氦的基本性质 | 第32-33页 |
| 1.5.3.2 氦泡的形核长大机制 | 第33-39页 |
| 1.5.3.3 氦的引入 | 第39-40页 |
| 1.6 碳化硅在离子辐照作用下的损伤行为 | 第40-42页 |
| 1.6.1 化学溅射 | 第40-41页 |
| 1.6.2 热解吸 | 第41页 |
| 1.6.3 Tokamak原位等离子体辐照损伤性能 | 第41-42页 |
| 1.7 本文的研究目的及主要研究内容 | 第42-44页 |
| 第2章 实验表征方法和测试手段 | 第44-51页 |
| 2.1 表面机械研磨处理(SMAT) | 第44页 |
| 2.2 显微硬度测试 | 第44页 |
| 2.3 抗弯强度 | 第44-45页 |
| 2.4 夏比冲击实验(Charpy Impact Test) | 第45页 |
| 2.5 扫描电镜表征(SEM) | 第45-46页 |
| 2.6 聚焦离子束扫描显微镜分析(FIB-SEM) | 第46-48页 |
| 2.7 透射电镜表征(TEM) | 第48页 |
| 2.8 200kV的离子注入机 | 第48-49页 |
| 2.9 SRIM模拟 | 第49页 |
| 2.10 原子力显微镜(Atomic Force Microscope,AFM) | 第49-51页 |
| 第3章 钨表面纳米层的制备及表征 | 第51-71页 |
| 3.1 引言 | 第51页 |
| 3.2 试验材料 | 第51页 |
| 3.3 弹丸的选择 | 第51-52页 |
| 3.4 性能测试 | 第52-57页 |
| 3.4.1 弹丸后样品基本性质测试 | 第52-53页 |
| 3.4.2 显微硬度测试 | 第53-54页 |
| 3.4.3 三点抗弯强度测试 | 第54-56页 |
| 3.4.4 韧脆化转变温度(DBTT)测试 | 第56-57页 |
| 3.5 微观组织结构分析 | 第57-67页 |
| 3.5.1 DBTT冲击断口形貌表征 | 第57-61页 |
| 3.5.2 截面形貌表征 | 第61-64页 |
| 3.5.3 晶体结构表征 | 第64-67页 |
| 3.6 钨的纳米化机制及强度、塑性差异的分析 | 第67-69页 |
| 3.7 本章小结 | 第69-71页 |
| 第4章 钨在氦作用下材料微观结构演化研究 | 第71-94页 |
| 4.1 引言 | 第71页 |
| 4.2 试验材料 | 第71页 |
| 4.3 实验过程 | 第71-73页 |
| 4.3.1 钨的透射电镜样品制备 | 第71-72页 |
| 4.3.2 氦离子辐照实验 | 第72-73页 |
| 4.4 样品的微观形貌表征 | 第73-91页 |
| 4.4.1 氦离子注入钨片前后表面的形貌变化 | 第73-78页 |
| 4.4.1.1 孔洞(Pores)的形成 | 第74-75页 |
| 4.4.1.2 氦泡(Blistering)的形成 | 第75-77页 |
| 4.4.1.3 “绒毛”(Fuzz)状纳米结构的形成 | 第77-78页 |
| 4.4.2 固态氦泡的TEM分析 | 第78-89页 |
| 4.4.3 温度对固态氦泡的影响 | 第89-91页 |
| 4.5 固态氦泡的形成机理 | 第91-92页 |
| 4.6 本章小结 | 第92-94页 |
| 第5章 氦在碳化硅中的微观行为研究 | 第94-101页 |
| 5.1 引言 | 第94页 |
| 5.2 实验方法 | 第94-95页 |
| 5.2.1 实验材料 | 第94-95页 |
| 5.2.2 实验过程 | 第95页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第95-100页 |
| 5.3.1 能量为100keV的氦离子注入SiC和高纯石墨 | 第95-97页 |
| 5.3.2 能量为20keV的氦离子注入SiC和高纯石墨 | 第97-100页 |
| 5.4 本章小结 | 第100-101页 |
| 全文总结 | 第101-104页 |
| 致谢 | 第104-105页 |
| 参考文献 | 第105-120页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文及科研成果 | 第120页 |
