| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 第1章 绪论 | 第14-34页 |
| 1.1 研究背景及研究意义 | 第14-15页 |
| 1.2 飞秒激光微/纳加工简介 | 第15-17页 |
| 1.2.1 飞秒激光脉冲 | 第15-16页 |
| 1.2.2 飞秒激光微/纳加工的优势 | 第16-17页 |
| 1.3 飞秒激光微/纳加工的研究现状 | 第17-28页 |
| 1.3.1 飞秒激光加工电介质材料 | 第18-24页 |
| 1.3.2 飞秒激光加工聚合物材料 | 第24-26页 |
| 1.3.3 飞秒激光加工半导体材料 | 第26-28页 |
| 1.4 论文的研究思路 | 第28-34页 |
| 1.4.1 目前的问题 | 第28-30页 |
| 1.4.2 本论文的主要研究内容 | 第30-32页 |
| 1.4.3 本论文的创新点 | 第32-34页 |
| 第2章 飞秒激光与非金属材料作用的理论基础及时域整形的原理 | 第34-56页 |
| 2.1 飞秒激光与非金属材料相互作用的理论基础 | 第34-39页 |
| 2.1.1 非线性电离—光致电离与碰撞电离 | 第34-36页 |
| 2.1.2 相变机制 | 第36-39页 |
| 2.2 飞秒激光时域整形的基本原理 | 第39-52页 |
| 2.2.1 飞秒激光的色散展宽 | 第39-45页 |
| 2.2.2 飞秒激光时域整形的原理和方法 | 第45-52页 |
| 2.3 飞秒激光脉冲序列微/纳加工实验光路 | 第52-54页 |
| 2.4 本章小结 | 第54-56页 |
| 第3章 时域整形的飞秒激光高质量加工电介质 | 第56-92页 |
| 3.1 时域整形的飞秒激光加工熔融石英 | 第56-79页 |
| 3.1.1 单脉冲烧蚀阈值的理论计算及实验测量 | 第56-66页 |
| 3.1.2 单脉冲烧蚀过程中的等离子体喷发 | 第66-69页 |
| 3.1.3 多脉冲烧蚀过程中的孵化效应 | 第69-72页 |
| 3.1.4 时域整形的飞秒激光高质量加工熔融石英 | 第72-79页 |
| 3.2 时域整形的飞秒激光提高氟化钙表面加工质量 | 第79-81页 |
| 3.3 时域整形的飞秒激光双光子聚合加工 | 第81-90页 |
| 3.3.1 双光子聚合加工工艺流程及光路系统 | 第81-83页 |
| 3.3.2 双光子聚合加工的阈值理论及实验 | 第83-88页 |
| 3.3.3 时域整形的飞秒激光双光子聚合加工立方体结构 | 第88-90页 |
| 3.4 本章小结 | 第90-92页 |
| 第4章 时域整形的飞秒激光高效率制备微流体通道 | 第92-130页 |
| 4.1 时域整形的飞秒激光烧蚀加工微通道 | 第93-112页 |
| 4.1.1 空气中加工微通道 | 第93-103页 |
| 4.1.2 液体辅助加工微通道 | 第103-112页 |
| 4.2 时域整形的飞秒激光辐照改性辅助化学刻蚀加工微通道 | 第112-127页 |
| 4.2.1 飞秒激光改性及化学刻蚀的机理 | 第113-115页 |
| 4.2.2 时域整形的飞秒激光改性刻蚀加工微通道 | 第115-126页 |
| 4.2.3 微通道的截面形状调控 | 第126-127页 |
| 4.3 本章小结 | 第127-130页 |
| 第5章 时域整形的飞秒激光调控半导体表面周期结构 | 第130-156页 |
| 5.1 飞秒激光在半导体表面形成周期结构的机理 | 第130-134页 |
| 5.2 时域整形的飞秒激光调控硅材料表面周期结构 | 第134-141页 |
| 5.2.1 时域整形的飞秒激光在硅材料表面诱导周期性结构 | 第135-139页 |
| 5.2.2 时域整形的飞秒激光调控硅材料表面结构的周期及形貌 | 第139-141页 |
| 5.3 时域整形飞秒激光直写加工调控硅材料表面周期性结构 | 第141-154页 |
| 5.3.1 飞秒激光在硅表面直写加工的各向异性 | 第142-147页 |
| 5.3.2 基于激光偏振的表面周期结构形貌调控 | 第147-149页 |
| 5.3.3 基于激光扫描的表面周期结构方向调控 | 第149-154页 |
| 5.4 本章小结 | 第154-156页 |
| 第6章 总结与展望 | 第156-161页 |
| 6.1 总结 | 第156-159页 |
| 6.2 展望 | 第159-161页 |
| 参考文献 | 第161-176页 |
| 攻读学位期间发表论文与研究成果清单 | 第176-179页 |
| 致谢 | 第179-180页 |
| 作者简介 | 第180页 |
