LaCl3:Pr晶体生长与光学性能研究表征
致谢 | 第6-7页 |
摘要 | 第7-8页 |
Abstract | 第8-9页 |
1.绪论 | 第15-27页 |
1.1 引言 | 第15页 |
1.2 闪烁晶体发展历程 | 第15-16页 |
1.3 常见的闪烁晶体: | 第16-18页 |
1.4 闪烁晶体的发光机理 | 第18-20页 |
1.5 闪烁晶体的生长方法 | 第20-24页 |
1.5.0 晶体生长方法 | 第20-21页 |
1.5.1 提拉法 | 第21-23页 |
1.5.2 坩埚下降法 | 第23-24页 |
1.6 LaCl_3:Pr晶体现状 | 第24-25页 |
1.7 选题依据与研究内容 | 第25-27页 |
1.7.1 选题依据 | 第25-26页 |
1.7.2 研究内容 | 第26-27页 |
2. LaCl_3:Pr晶体生长及加工封装 | 第27-51页 |
2.1 表征闪烁晶体的性能参数 | 第27-32页 |
2.1.1 X射线衍射分析(XRD) | 第27-28页 |
2.1.2 同步热分析(DSC/TG) | 第28页 |
2.1.3 透过率测试 | 第28-29页 |
2.1.4 荧光光谱及荧光寿命测试 | 第29-30页 |
2.1.5 X射线激发发射光谱 | 第30-31页 |
2.1.6 光输出 | 第31页 |
2.1.7 能量分辨率 | 第31-32页 |
2.1.8 衰减时间 | 第32页 |
2.2 仪器设备和晶体原料介绍 | 第32-33页 |
2.3 LaCl_3:Pr晶体生长 | 第33-42页 |
2.3.1 生长前准备工作 | 第34-38页 |
2.3.2 LaCl_3:Pr晶体制备 | 第38-42页 |
2.4 LaCl_3:Pr晶体晶体加工 | 第42-45页 |
2.4.1 LaCl_3:Pr晶体切割 | 第42-44页 |
2.4.2 LaCl_3:Pr晶体研磨 | 第44-45页 |
2.4.3 LaCl_3:Pr晶体抛光 | 第45页 |
2.5 LaCl_3:Pr晶体封装 | 第45-46页 |
2.6 单晶生长工艺对晶体生长的影响 | 第46-50页 |
2.6.1 LaCl_3:Pr单晶生长缺陷 | 第46-49页 |
2.6.2 影响晶体生长的因素 | 第49-50页 |
2.7 本章小结 | 第50-51页 |
3. LaCl_3:Pr晶体性能表征 | 第51-68页 |
3.1 X射线衍射分析(XRD) | 第51页 |
3.2 透过率测试 | 第51-54页 |
3.3 潮解实验 | 第54-55页 |
3.4 X射线激发发射光谱 | 第55-56页 |
3.5 荧光光谱及荧光寿命测试 | 第56-64页 |
3.5.1 荧光光谱测试 | 第56-61页 |
3.5.2 荧光寿命测试 | 第61-64页 |
3.6 光输出与能量分辨率 | 第64-65页 |
3.7 衰减时间 | 第65-66页 |
3.8 本章小结 | 第66-68页 |
4. 结论与展望 | 第68-70页 |
4.1 结论 | 第68-69页 |
4.2 论文创新点 | 第69页 |
4.3 展望 | 第69-70页 |
参考文献 | 第70-74页 |
作者简历 | 第74页 |