| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 概述 | 第9-11页 |
| ·纳米晶磁性材料 | 第9页 |
| ·研究现状 | 第9-10页 |
| ·研究动机 | 第10-11页 |
| 第二章 理论基础 | 第11-24页 |
| ·物质磁性和磁性材料的分类 | 第11-14页 |
| ·抗磁性 | 第11-12页 |
| ·顺磁性和超顺磁性 | 第12-13页 |
| ·反铁磁性 | 第13页 |
| ·亚铁磁性 | 第13-14页 |
| ·铁磁性 | 第14页 |
| ·各向异性模型 | 第14-18页 |
| ·随机各向异性 | 第14-16页 |
| ·形状磁各向异性 | 第16-17页 |
| ·应力磁各向异性 | 第17-18页 |
| ·磁场感生磁各向异性 | 第18页 |
| ·磁晶各向异性 | 第18页 |
| ·磁畴和畴壁移动 | 第18-20页 |
| ·关于高频磁性的理论处理 | 第20-24页 |
| ·磁谱的计算 | 第20-22页 |
| ·复数磁导率实部μ'、共振频率fr的获得 | 第22-24页 |
| 第三章 样品的制备工艺及性能表征方法 | 第24-34页 |
| ·样品制备 | 第24-29页 |
| ·溅射镀膜原理与方法 | 第24-27页 |
| ·溅射镀膜设备 | 第27-28页 |
| ·样品的制备及工艺条件 | 第28-29页 |
| ·薄膜性能表征方法 | 第29-34页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第29-30页 |
| ·X射线能量色散谱(EDS) | 第30页 |
| ·振动样品磁强计(VSM) | 第30-31页 |
| ·台阶仪 | 第31页 |
| ·高频磁导率的测量 | 第31-34页 |
| 第四章 结果与讨论 | 第34-48页 |
| ·溅射参数的影响 | 第34-36页 |
| ·样品的结构和形貌 | 第36-37页 |
| ·稀土掺杂对FeNi薄膜磁性的影响 | 第37-38页 |
| ·FeNiSm薄膜厚度对磁性的影响 | 第38-42页 |
| ·Ta隔离层使200nm的FeNiSm薄膜重新获得面内各向异性 | 第42-43页 |
| ·隔离层变化对200nm FeNiSm薄膜磁性的影响 | 第43-44页 |
| ·磁距翻转机制 | 第44-46页 |
| ·高频特性 | 第46-48页 |
| 参考文献 | 第48-49页 |
| 附录 在读期间已发表和完成的论文 | 第49-50页 |
| 致谢 | 第50页 |