| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-21页 |
| 1.1 前言 | 第11页 |
| 1.2 半导体光催化技术 | 第11-17页 |
| 1.2.1 半导体光催化概述 | 第11页 |
| 1.2.2 半导体催化原理 | 第11-12页 |
| 1.2.3 半导体光催化应用 | 第12-17页 |
| 1.3 高性能半导体光催化剂设计策略 | 第17-20页 |
| 1.3.1 高性能半导体光催化剂设计概述 | 第17页 |
| 1.3.2 吸附/反应位点的优化 | 第17页 |
| 1.3.3 光子利用效率的优化 | 第17-20页 |
| 1.4 论文的选题思想及主要内容 | 第20-21页 |
| 1.4.1 论文选题思想 | 第20页 |
| 1.4.2 主要内容 | 第20-21页 |
| 第二章 氮掺杂超薄氯氧化铋纳米片的制备及其光催化还原CO_2的研究 | 第21-42页 |
| 2.1 引言 | 第21-22页 |
| 2.2 实验部分 | 第22-25页 |
| 2.2.1 实验试剂 | 第22-23页 |
| 2.2.2 实验仪器 | 第23页 |
| 2.2.3 分析仪器 | 第23页 |
| 2.2.4 催化材料的合成 | 第23-24页 |
| 2.2.5 催化材料的表征 | 第24页 |
| 2.2.6 光催化实验 | 第24页 |
| 2.2.7 理论计算 | 第24-25页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第25-41页 |
| 2.3.1 理论计算 | 第25-31页 |
| 2.3.2 结构表征 | 第31-36页 |
| 2.3.3 光学性质表征 | 第36-37页 |
| 2.3.4 样品光催化性能的测试 | 第37-39页 |
| 2.3.5 光催化反应机理分析 | 第39-41页 |
| 2.4 本章小结 | 第41-42页 |
| 第三章 碳掺杂氯氧化铋纳米片可见光催化还原N_2到NH_4~+的研究 | 第42-61页 |
| 3.1 引言 | 第42-43页 |
| 3.2 实验部分 | 第43-46页 |
| 3.2.1 实验试剂 | 第43页 |
| 3.2.2 实验仪器 | 第43-44页 |
| 3.2.3 分析仪器 | 第44页 |
| 3.2.4 催化材料的合成 | 第44-45页 |
| 3.2.5 催化材料的表征 | 第45页 |
| 3.2.6 光催化实验 | 第45页 |
| 3.2.7 光电流实验 | 第45页 |
| 3.2.8 理论计算 | 第45-46页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第46-60页 |
| 3.3.1 理论计算 | 第46-49页 |
| 3.3.2 结构表征 | 第49-53页 |
| 3.3.3 光学性质表征 | 第53-54页 |
| 3.3.4 样品的比表面积测试 | 第54页 |
| 3.3.5 样品的光催化还原N_2到N_4~+的性能 | 第54-56页 |
| 3.3.6 催化剂的循环性能 | 第56-57页 |
| 3.3.7 样品的光催化还原N_2到N_4~+的机理 | 第57-60页 |
| 3.4 本章小结 | 第60-61页 |
| 第四章 结论与展望 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-69页 |
| 附录 作者攻读硕士学位期间发表论文 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70页 |
