304奥氏体不锈钢低温等离子体氮化及耐磨性能研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第11-21页 |
| 1.1 引言 | 第11页 |
| 1.2 不锈钢概述 | 第11-15页 |
| 1.2.1 奥氏体不锈钢的特点及应用 | 第12-13页 |
| 1.2.2 奥氏体不锈钢表面改性技术的研究现状 | 第13-15页 |
| 1.3 等离子体氮化技术 | 第15-17页 |
| 1.3.1 等离子体定义 | 第15页 |
| 1.3.2 等离子氮化原理 | 第15-16页 |
| 1.3.3 等离子氮化特点 | 第16-17页 |
| 1.4 低温等离子体氮化技术 | 第17-19页 |
| 1.4.1 低温等离子氮化原理与装置 | 第17-18页 |
| 1.4.2 国内外低温等离子体氮化技术研究现状 | 第18-19页 |
| 1.5 课题研究的目的和内容 | 第19-21页 |
| 第2章 实验设备和实验方法 | 第21-31页 |
| 2.1 ICP等离子体表面改性系统 | 第21-24页 |
| 2.1.1 真空抽气系统 | 第22页 |
| 2.1.2 ICP表面改性反应室 | 第22-23页 |
| 2.1.3 检测组件 | 第23-24页 |
| 2.2 实验方法 | 第24-25页 |
| 2.2.1 实验材料 | 第24页 |
| 2.2.2 氮化实验 | 第24-25页 |
| 2.2.3 摩擦实验 | 第25页 |
| 2.3 分析测试方法 | 第25-31页 |
| 2.3.1 X射线衍射仪(XRD) | 第25-26页 |
| 2.3.2 毫安电流表 | 第26-27页 |
| 2.3.3 EPP2000型光谱仪 | 第27页 |
| 2.3.4 金相显微镜 | 第27-28页 |
| 2.3.5 扫描电子显微镜 | 第28-29页 |
| 2.3.6 显微硬度计 | 第29页 |
| 2.3.7 摩擦磨损试验机 | 第29-31页 |
| 第3章 低温等离子体氮化工艺参数与离子流密度关系 | 第31-51页 |
| 3.1 引言 | 第31页 |
| 3.2 低温等离子体氮化最优工艺参数的确定 | 第31-39页 |
| 3.2.1 低温等离子体氮化中样片效果的研究 | 第31-33页 |
| 3.2.2 低温等离子体氮化中工作压力的初定 | 第33-34页 |
| 3.2.3 低温等离子体氮化中最优偏压的确定 | 第34-35页 |
| 3.2.4 低温等离子体氮化中工作时间的确定 | 第35-36页 |
| 3.2.5 低温等离子体氮化中工作压力的验证 | 第36-39页 |
| 3.2.6 小结 | 第39页 |
| 3.3 不同工艺参数与离子流密度的关系 | 第39-44页 |
| 3.3.1 离子流密度 | 第39-40页 |
| 3.3.2 负偏压与离子流密度的关系 | 第40-41页 |
| 3.3.3 硬度与离子流密度的关系 | 第41-42页 |
| 3.3.4 负偏压与硬度的关系 | 第42-43页 |
| 3.3.5 工作压力与离子流密度的关系 | 第43页 |
| 3.3.6 工作时间与离子流密度的关系 | 第43-44页 |
| 3.4 OES监测N等离子体状态 | 第44-48页 |
| 3.4.1 负偏压对等离子体特征谱线强度的影响 | 第45-46页 |
| 3.4.2 工作压力对等离子体特征谱线强度的影响 | 第46-47页 |
| 3.4.3 最优工艺参数下等离子体特征谱线研究 | 第47-48页 |
| 3.5 本章小结 | 第48-51页 |
| 第4章 低温等离子体氮化耐磨性能研究 | 第51-65页 |
| 4.1 引言 | 第51页 |
| 4.2 工艺参数对氮化层摩擦系数的影响 | 第51-57页 |
| 4.2.1 负偏压对氮化层摩擦系数的影响 | 第52-54页 |
| 4.2.2 工作压力对氮化层摩擦系数的影响 | 第54-57页 |
| 4.3 工艺参数对氮化层磨损形貌的影响 | 第57-61页 |
| 4.3.1 负偏压对氮化层磨损形貌的影响 | 第57-59页 |
| 4.3.2 工作压力对氮化层磨损形貌的影响 | 第59-61页 |
| 4.4 离子流密度对氮化层耐磨性能的影响 | 第61-62页 |
| 4.4.1 离子流密度对摩擦系数的影响 | 第61-62页 |
| 4.4.2 离子流密度对磨痕宽度的影响 | 第62页 |
| 4.5 本章小结 | 第62-65页 |
| 第5章 结论与展望 | 第65-67页 |
| 5.1 结论 | 第65页 |
| 5.2 展望 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-75页 |
| 致谢 | 第75页 |
