铀表面氮化对铀上镀钛界面结合的影响
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-24页 |
| ·铀的性质及其腐蚀 | 第9-11页 |
| ·金属铀的基本性质 | 第9页 |
| ·铀在氧气环境中的腐蚀 | 第9-10页 |
| ·铀在水氧气氛中的腐蚀 | 第10-11页 |
| ·铀表面的防腐蚀薄膜 | 第11-15页 |
| ·离子镀 | 第11-12页 |
| ·多弧离子镀 | 第12-13页 |
| ·磁控溅射 | 第13-14页 |
| ·铀表面Ti/TiN薄膜的性质 | 第14-15页 |
| ·铀表面防腐蚀薄膜膜基界面 | 第15-19页 |
| ·铀的表面氮化 | 第19-22页 |
| ·小结 | 第22-24页 |
| 第二章 实验原理与设备 | 第24-29页 |
| ·实验原理 | 第24-25页 |
| ·分析仪器 | 第25-29页 |
| ·X射线衍射 | 第25-26页 |
| ·俄歇电子能谱 | 第26-27页 |
| ·X射线光电子能谱仪 | 第27-29页 |
| 第三章 实验 | 第29-31页 |
| ·铀的离子氮化 | 第29页 |
| ·磁控溅射镀膜 | 第29页 |
| ·电化学实验 | 第29-31页 |
| 第四章 结果与讨论 | 第31-64页 |
| ·镀膜前状态考察 | 第31-45页 |
| ·氮化铀的镀膜前处理状态 | 第33-35页 |
| ·离子溅射对氮化铀表面状态的影响 | 第35-45页 |
| ·小结 | 第45页 |
| ·膜基界面分析 | 第45-57页 |
| ·膜基界面XPS分析 | 第47-53页 |
| ·膜基界面AES分析 | 第53-56页 |
| ·小结 | 第56-57页 |
| ·性能考察 | 第57-64页 |
| ·电化学分析 | 第57-58页 |
| ·膜基界面结合强度测试 | 第58-62页 |
| ·小结 | 第62-64页 |
| 第五章 结论与展望 | 第64-66页 |
| ·结论 | 第64-65页 |
| ·工作展望 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 附录 | 第70页 |
