摘要 | 第1-4页 |
Abstract | 第4-8页 |
第一章 绪论 | 第8-23页 |
·引言 | 第8页 |
·光催化材料的研究历史及其催化机理 | 第8-10页 |
·光催化材料的研究历史 | 第8-9页 |
·光催化材料的催化机理 | 第9-10页 |
·氮化碳的概述 | 第10-17页 |
·氮化碳的研究历程 | 第10-11页 |
·氮化碳的结构 | 第11-12页 |
·g-C_3N_4的性质 | 第12-14页 |
·g-C_3N_4的制备及应用 | 第14-17页 |
·提高g-C_3N_4的光催化活性的途径 | 第17-21页 |
·比表面积 | 第17页 |
·贵金属的沉积 | 第17-18页 |
·金属与非金属元素的掺杂 | 第18页 |
·能带调控 | 第18-19页 |
·半导体复合 | 第19-21页 |
·本论文的研究目的及主要内容 | 第21-23页 |
·本论文的研究目的 | 第21页 |
·本论文的主要内容 | 第21-23页 |
第二章 实验部分 | 第23-28页 |
·实验试剂及仪器 | 第23-24页 |
·实验试剂 | 第23页 |
·实验仪器 | 第23-24页 |
·催化剂g-C_3N_4的表征 | 第24-26页 |
·X射线衍射(XRD) | 第24页 |
·傅里叶变换红外光谱(FTIR) | 第24页 |
·X射线光电子能谱 (XPS) | 第24页 |
·扫描电子显微镜(SEM) | 第24-25页 |
·透射电子显微镜(TEM) | 第25页 |
·比表面积分析仪(BET) | 第25页 |
·紫外-可见漫反射光谱(DRS) | 第25页 |
·热重分析(TG) | 第25-26页 |
·光催化活性评价 | 第26-28页 |
·实验装置 | 第26页 |
·试验方法 | 第26-27页 |
·评价方法 | 第27-28页 |
第三章 不同前驱体制备g-C_3N_4及光催化性能研究 | 第28-36页 |
·引言 | 第28页 |
·实验部分 | 第28-29页 |
·g-C_3N_4的制备 | 第28-29页 |
·光催化材料的表征 | 第29页 |
·光催化降解实验 | 第29页 |
·结果与讨论 | 第29-35页 |
·X射线衍射分析(XRD) | 第29-30页 |
·红外光谱分析(FTIR) | 第30-31页 |
·扫描电镜分析(SEM) | 第31-32页 |
·比表面积分析(BET) | 第32-33页 |
·紫外-可见漫反射分析(DRS) | 第33-34页 |
·光催化性质评定 | 第34-35页 |
·本章小结 | 第35-36页 |
第四章 g-C_3N_4衍生物的制备及光催化性能研究 | 第36-45页 |
·引言 | 第36页 |
·实验部分 | 第36-37页 |
·g-C_3N_4衍生物的制备及表征 | 第36-37页 |
·光催化降解实验 | 第37页 |
·结果与讨论 | 第37-44页 |
·X射线衍射分析(XRD) | 第37-38页 |
·红外光谱分析(FTIR) | 第38-39页 |
·扫描电镜分析(SEM) | 第39-40页 |
·比表面积分析(BET) | 第40-41页 |
·紫外可见漫反射分析(DRS) | 第41-42页 |
·光催化性质评定及机理分析 | 第42-44页 |
·本章小结 | 第44-45页 |
第五章 g-C_3N_4衍生物的热处理及光催化性能研究 | 第45-55页 |
·引言 | 第45页 |
·实验部分 | 第45-46页 |
·高效g-C_3N_4的制备及表征 | 第45页 |
·光催化降解实验 | 第45-46页 |
·结果与讨论 | 第46-54页 |
·X射线衍射分析(XRD) | 第46页 |
·红外光谱分析(FTIR) | 第46-47页 |
·X射线光电子能谱分析(XPS) | 第47-48页 |
·扫描电镜分析(SEM) | 第48-49页 |
·透射电镜分析(TEM) | 第49-50页 |
·比表面积分析(BET) | 第50页 |
·热重分析(TG) | 第50-51页 |
·紫外-可见漫反射分析(DRS) | 第51-52页 |
·光催化性质评定及机理分析 | 第52-54页 |
·本章小结 | 第54-55页 |
结论 | 第55-56页 |
致谢 | 第56-57页 |
参考文献 | 第57-65页 |
作者简介 | 第65页 |
攻读硕士学位期间研究成果 | 第65页 |