基于PDM对纯铜钝性和点蚀的研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-13页 |
| 第1章 绪论 | 第13-37页 |
| ·前言 | 第13-14页 |
| ·铜的腐蚀和钝化 | 第14-18页 |
| ·铜钝化膜的结构和成分 | 第16-17页 |
| ·铜钝化膜的电子特性 | 第17-18页 |
| ·钝化膜的生长 | 第18-24页 |
| ·钝化膜生长机理 | 第19-20页 |
| ·点缺陷模型 | 第20-24页 |
| ·钝化膜的破裂及点蚀 | 第24-35页 |
| ·钝化膜破裂机理 | 第24-29页 |
| ·点蚀的生长及再钝化 | 第29-32页 |
| ·损伤方程分析 | 第32-33页 |
| ·确定性极值统计 | 第33-35页 |
| ·研究目的 | 第35页 |
| ·研究内容 | 第35-37页 |
| 第2章 铜的钝性及动力学稳定图 | 第37-59页 |
| ·引言 | 第37-38页 |
| ·实验 | 第38-40页 |
| ·实验原料及仪器 | 第38页 |
| ·实验内容 | 第38-40页 |
| ·结果分析与讨论 | 第40-57页 |
| ·动电位极化分析 | 第41-42页 |
| ·莫特-肖特基分析 | 第42-44页 |
| ·电化学阻抗谱分析 | 第44-52页 |
| ·铜的动力学稳定图 | 第52-57页 |
| ·本章小结 | 第57-59页 |
| 第3章 氯离子对铜钝化膜破裂的影响 | 第59-79页 |
| ·引言 | 第59页 |
| ·实验 | 第59-61页 |
| ·实验原料及仪器 | 第59-60页 |
| ·实验内容 | 第60-61页 |
| ·结果分析与讨论 | 第61-78页 |
| ·点蚀电位的测量 | 第61-73页 |
| ·临界空位密度的估算 | 第73-75页 |
| ·点蚀电位分布曲线的模拟 | 第75-78页 |
| ·本章小结 | 第78-79页 |
| 第4章 温度对铜钝化膜破裂的影响 | 第79-99页 |
| ·引言 | 第79-80页 |
| ·实验 | 第80-82页 |
| ·实验原料及仪器 | 第80页 |
| ·实验方案 | 第80-82页 |
| ·结果分析与讨论 | 第82-96页 |
| ·点蚀电位的测量 | 第82-89页 |
| ·金相及能谱分析 | 第89-91页 |
| ·临界空位密度的估算 | 第91-92页 |
| ·点蚀电位分布曲线的模拟 | 第92-94页 |
| ·铜容器点蚀电位的预测 | 第94-96页 |
| ·本章小结 | 第96-99页 |
| 第5章 铜表面的点蚀损伤 | 第99-121页 |
| ·引言 | 第99页 |
| ·实验 | 第99-101页 |
| ·实验原料及仪器 | 第99页 |
| ·实验方案 | 第99-101页 |
| ·结果分析与讨论 | 第101-118页 |
| ·再钝化电位的初步研究 | 第101-108页 |
| ·点蚀深度分布的统计 | 第108-111页 |
| ·最大点蚀深度预测的初步研究 | 第111-118页 |
| ·对后续研究工作的展望 | 第118页 |
| ·本章小结 | 第118-121页 |
| 第6章 结论 | 第121-123页 |
| 参考文献 | 第123-137页 |
| 致谢 | 第137-139页 |
| 攻读学位期间发表的论文 | 第139-141页 |
| 作者简介 | 第141页 |
