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二氧化钛薄膜的制备及光催化性能的研究

摘要第1-4页
Abstract第4-6页
目录第6-9页
第一章 绪论第9-18页
   ·引言第9页
   ·TiO_2光催化技术研究进展第9-15页
     ·TiO_2的性质第9-10页
     ·TiO_2光催化技术发展概述第10-12页
     ·TiO_2光催化的基本原理第12-13页
     ·TiO_2光催化性能的影响因素第13-15页
     ·提高TiO_2光催化性能的途径第15页
   ·TiO_2在环保领域中的不同应用第15-16页
     ·在污水处理方面的应用第16页
     ·在净化空气方面的应用第16页
     ·在制备环保材料方面的应用第16页
   ·选题思路与研究内容第16-18页
     ·选题思路第17页
     ·研究内容第17-18页
第二章 TiO_2薄膜的制备及各种表征方法第18-27页
   ·TiO_2薄膜的制备方法及介绍第18-20页
     ·液相法第18-19页
     ·物理气相沉积法第19页
     ·化学气相沉积法第19页
     ·射频磁控溅射法第19-20页
   ·实验所用材料及制备薄膜原理第20-22页
     ·实验原料及合成设备第20页
     ·磁控溅射仪制备TiO_2薄膜的原理第20-22页
   ·样品表征方法第22-24页
     ·XRD检测第23页
     ·AFM检测第23页
     ·紫外-可见光光度计检测第23-24页
     ·光催化性能检测第24页
   ·甲基橙的结构及其降解原理第24-27页
     ·甲基橙结构及其性质第24-25页
     ·甲基橙分解原理第25-27页
第三章 二氧化钛靶材和薄膜的制备第27-33页
   ·TiO_2靶材的制备和煅烧第27-28页
   ·纳米TiO_2薄膜的制备第28-32页
     ·实验所用衬底的清洗第28-29页
     ·磁控溅射法制备TiO_2薄膜第29-32页
   ·影响二氧化钛薄膜性能的参数第32-33页
第四章 衬底温度和功率对二氧化钛薄膜性能的影响第33-43页
   ·衬底温度对TiO_2薄膜形貌和光催化性能的影响第33-36页
     ·样品制备第33页
     ·薄膜的紫外可见光谱分析第33-34页
     ·薄膜的XRD分析第34-35页
     ·薄膜的光催化效果第35-36页
   ·溅射功率对TiO_2薄膜形貌和光催化性能的影响第36-42页
     ·样品制备第37页
     ·XRD分析第37-38页
     ·AFM检测第38-39页
     ·紫外-可见分光光度计检测第39-41页
     ·光催化性能检测第41-42页
   ·本章小结第42-43页
第五章 退火工艺对二氧化钛薄膜性能的影响第43-55页
   ·退火温度对TiO_2薄膜结构和光学性质的影响第43-49页
     ·材料制备第43页
     ·薄膜的XRD分析第43-45页
     ·薄膜的AFM检测第45-46页
     ·薄膜的透过谱分析第46-48页
     ·薄膜的光催化效果第48-49页
   ·退火时间对TiO_2薄膜结构和光学性质的影响第49-53页
     ·薄膜的紫外可见透过光谱分析第49-51页
     ·薄膜的XRD分析第51页
     ·薄膜的AFM分析第51-52页
     ·薄膜的光催化性能分析第52-53页
   ·本章小结第53-55页
总结第55-56页
参考文献第56-59页
攻读硕士学位期间取得的科研成果第59-60页
 已发表和待发表论文第59页
 获表彰情况第59-60页
致谢第60页

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