二氧化钛薄膜的制备及光催化性能的研究
摘要 | 第1-4页 |
Abstract | 第4-6页 |
目录 | 第6-9页 |
第一章 绪论 | 第9-18页 |
·引言 | 第9页 |
·TiO_2光催化技术研究进展 | 第9-15页 |
·TiO_2的性质 | 第9-10页 |
·TiO_2光催化技术发展概述 | 第10-12页 |
·TiO_2光催化的基本原理 | 第12-13页 |
·TiO_2光催化性能的影响因素 | 第13-15页 |
·提高TiO_2光催化性能的途径 | 第15页 |
·TiO_2在环保领域中的不同应用 | 第15-16页 |
·在污水处理方面的应用 | 第16页 |
·在净化空气方面的应用 | 第16页 |
·在制备环保材料方面的应用 | 第16页 |
·选题思路与研究内容 | 第16-18页 |
·选题思路 | 第17页 |
·研究内容 | 第17-18页 |
第二章 TiO_2薄膜的制备及各种表征方法 | 第18-27页 |
·TiO_2薄膜的制备方法及介绍 | 第18-20页 |
·液相法 | 第18-19页 |
·物理气相沉积法 | 第19页 |
·化学气相沉积法 | 第19页 |
·射频磁控溅射法 | 第19-20页 |
·实验所用材料及制备薄膜原理 | 第20-22页 |
·实验原料及合成设备 | 第20页 |
·磁控溅射仪制备TiO_2薄膜的原理 | 第20-22页 |
·样品表征方法 | 第22-24页 |
·XRD检测 | 第23页 |
·AFM检测 | 第23页 |
·紫外-可见光光度计检测 | 第23-24页 |
·光催化性能检测 | 第24页 |
·甲基橙的结构及其降解原理 | 第24-27页 |
·甲基橙结构及其性质 | 第24-25页 |
·甲基橙分解原理 | 第25-27页 |
第三章 二氧化钛靶材和薄膜的制备 | 第27-33页 |
·TiO_2靶材的制备和煅烧 | 第27-28页 |
·纳米TiO_2薄膜的制备 | 第28-32页 |
·实验所用衬底的清洗 | 第28-29页 |
·磁控溅射法制备TiO_2薄膜 | 第29-32页 |
·影响二氧化钛薄膜性能的参数 | 第32-33页 |
第四章 衬底温度和功率对二氧化钛薄膜性能的影响 | 第33-43页 |
·衬底温度对TiO_2薄膜形貌和光催化性能的影响 | 第33-36页 |
·样品制备 | 第33页 |
·薄膜的紫外可见光谱分析 | 第33-34页 |
·薄膜的XRD分析 | 第34-35页 |
·薄膜的光催化效果 | 第35-36页 |
·溅射功率对TiO_2薄膜形貌和光催化性能的影响 | 第36-42页 |
·样品制备 | 第37页 |
·XRD分析 | 第37-38页 |
·AFM检测 | 第38-39页 |
·紫外-可见分光光度计检测 | 第39-41页 |
·光催化性能检测 | 第41-42页 |
·本章小结 | 第42-43页 |
第五章 退火工艺对二氧化钛薄膜性能的影响 | 第43-55页 |
·退火温度对TiO_2薄膜结构和光学性质的影响 | 第43-49页 |
·材料制备 | 第43页 |
·薄膜的XRD分析 | 第43-45页 |
·薄膜的AFM检测 | 第45-46页 |
·薄膜的透过谱分析 | 第46-48页 |
·薄膜的光催化效果 | 第48-49页 |
·退火时间对TiO_2薄膜结构和光学性质的影响 | 第49-53页 |
·薄膜的紫外可见透过光谱分析 | 第49-51页 |
·薄膜的XRD分析 | 第51页 |
·薄膜的AFM分析 | 第51-52页 |
·薄膜的光催化性能分析 | 第52-53页 |
·本章小结 | 第53-55页 |
总结 | 第55-56页 |
参考文献 | 第56-59页 |
攻读硕士学位期间取得的科研成果 | 第59-60页 |
已发表和待发表论文 | 第59页 |
获表彰情况 | 第59-60页 |
致谢 | 第60页 |