| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-24页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·硅纳米线的制备方法 | 第9-12页 |
| ·金属催化化学腐蚀法 | 第10页 |
| ·气-液-固法 | 第10-11页 |
| ·固-液-固法 | 第11页 |
| ·氧化物辅助生长法 | 第11页 |
| ·有机溶液生长法 | 第11-12页 |
| ·其他方法 | 第12页 |
| ·硅纳米线的性能研究 | 第12-15页 |
| ·硅纳米线的光学性能 | 第12-13页 |
| ·硅纳米线的电学性能 | 第13-14页 |
| ·硅纳米线的热传导性能 | 第14页 |
| ·硅纳米线的磁学性能 | 第14页 |
| ·硅纳米线的光催化性能 | 第14-15页 |
| ·硅纳米线复合结构的制备方法 | 第15-16页 |
| ·一步合成法 | 第15页 |
| ·二步合成法 | 第15-16页 |
| ·硅纳米线复合结构的应用研究 | 第16-22页 |
| ·场效应晶体管 | 第17页 |
| ·场发射 | 第17-18页 |
| ·太阳能电池 | 第18页 |
| ·锂离子电池负极材料 | 第18-19页 |
| ·生物和化学传感器 | 第19-20页 |
| ·热电材料 | 第20-21页 |
| ·光催化 | 第21-22页 |
| ·论文的选题以及主要内容 | 第22-24页 |
| 第2章 硅纳米线阵列的制备与表征 | 第24-28页 |
| ·引言 | 第24页 |
| ·硅纳米线阵列的制备 | 第24-26页 |
| ·样品的制备 | 第24-25页 |
| ·样品的表征与结果分析 | 第25-26页 |
| ·小结 | 第26-28页 |
| 第3章 Bi_2Si0_5/Si 纳米线复合阵列结构的制备、表征与光催化性能研究 | 第28-36页 |
| ·引言 | 第28-29页 |
| ·Bi_2Si0_5/Si 纳米线复合阵列结构的制备 | 第29-32页 |
| ·样品的制备 | 第29页 |
| ·样品的表征与结果分析 | 第29-32页 |
| ·Bi_2Si0_5/Si 纳米线复合阵列结构的光催化性能研究 | 第32-35页 |
| ·光催化性能 | 第32-34页 |
| ·光催化机理 | 第34-35页 |
| ·小结 | 第35-36页 |
| 第4章 Cu_20/Si 纳米线复合阵列结构的制备、表征与光催化性能研究 | 第36-45页 |
| ·引言 | 第36-37页 |
| ·Cu_20/Si 纳米线复合阵列结构的制备 | 第37-42页 |
| ·样品的制备 | 第37-38页 |
| ·样品的表征与结果分析 | 第38-42页 |
| ·Cu_20/Si 纳米线复合阵列结构的光催化性能研究 | 第42-44页 |
| ·光催化性能 | 第42-43页 |
| ·光催化机理 | 第43-44页 |
| ·小结 | 第44-45页 |
| 第5章 总结与展望 | 第45-47页 |
| ·总结 | 第45-46页 |
| ·展望 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-55页 |
| 致谢 | 第55-56页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第56页 |
