| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-23页 |
| ·LaNiO_3材料综述 | 第10-17页 |
| ·高温超导材料 | 第10-11页 |
| ·钙钛矿型氧化物 | 第11-13页 |
| ·LaNiO_3材料结构与性质 | 第13-14页 |
| ·超晶格薄膜 | 第14-17页 |
| ·多晶制备方法 | 第17-20页 |
| ·固相反应法 | 第17页 |
| ·气相反应法 | 第17-18页 |
| ·液相反应法 | 第18-20页 |
| ·薄膜生长方法 | 第20-22页 |
| ·蒸发(Evaporation) | 第20-21页 |
| ·溅射(Sputtering) | 第21页 |
| ·化学气相淀积(CVD) | 第21页 |
| ·Sol-Gel法 | 第21-22页 |
| ·研究目标与基本内容 | 第22-23页 |
| 第二章 实验仪器及方法 | 第23-32页 |
| ·靶材制备方法及实验仪器 | 第23-25页 |
| ·靶材制备 | 第23-24页 |
| ·实验试剂与仪器 | 第24-25页 |
| ·薄膜制备方法与仪器 | 第25-28页 |
| ·衬底选择 | 第25-26页 |
| ·PLD镀膜工艺流程 | 第26-27页 |
| ·紫外脉冲激光沉积(PLD)设备及原理 | 第27-28页 |
| ·靶材及薄膜的表征 | 第28-32页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM) | 第28-30页 |
| ·X射线衍射仪(XRD) | 第30页 |
| ·电阻-温度(R-T)曲线测量 | 第30-32页 |
| 第三章 溶胶凝胶法制备LaNiO_3粉体 | 第32-43页 |
| ·选择不同溶剂对LaNiO_3纳米粉末的影响 | 第32-36页 |
| ·以去离子水作为溶剂制备的LaNiO_3粉末 | 第36-40页 |
| ·pH值对LaNiO_3粉末的影响 | 第36-40页 |
| ·预烧温度对LaNiO_3粉末的影响 | 第40页 |
| ·乙二醇的影响 | 第40-42页 |
| ·溶剂为去离子水 | 第40-41页 |
| ·溶剂为酒精 | 第41-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 第四章 LaNiO_3靶材制备 | 第43-51页 |
| ·不同pH值对靶材的影响 | 第43-45页 |
| ·预烧对靶材的影响 | 第45-46页 |
| ·终烧对靶材的影响 | 第46-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 第五章 LaNiO_3单层膜和多层膜制备工艺及性能研究 | 第51-74页 |
| ·LaNiO_3单层膜制备 | 第52-61页 |
| ·LaNiO_3单层膜前期探索 | 第52-55页 |
| ·生长氧压的变化对薄膜的影响 | 第55-58页 |
| ·生长温度的变化对薄膜的影响 | 第58-60页 |
| ·退火对薄膜的影响 | 第60-61页 |
| ·LaAlO_3单层膜制备 | 第61-68页 |
| ·生长氧压的变化对薄膜的影响 | 第63-64页 |
| ·生长温度的变化对薄膜的影响 | 第64-65页 |
| ·其他条件对薄膜的影响 | 第65-68页 |
| ·LaNiO_3/LaAlO_3多层膜制备 | 第68-73页 |
| ·本章小结 | 第73-74页 |
| 第六章 结论与展望 | 第74-76页 |
| ·结论 | 第74页 |
| ·展望 | 第74-76页 |
| 致谢 | 第76-78页 |
| 参考文献 | 第78-83页 |
| 附录A 攻读硕士期间发表论文目录 | 第83-85页 |