| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第一章 研究背景 | 第10-28页 |
| ·多孔材料 | 第10-11页 |
| ·介孔材料 | 第11-16页 |
| ·介孔材料的起始 | 第12-13页 |
| ·介孔材料的生成机理 | 第13-15页 |
| ·M41S系列中的MCM-50 | 第15-16页 |
| ·沸石分子筛 | 第16-19页 |
| ·沸石分子筛的孔道限制及解决策略 | 第18-19页 |
| ·新型沸石分子筛的合成策略 | 第19-26页 |
| ·利用层状前驱体对称性作用 | 第19-21页 |
| ·酸处理及拓扑转化在构建新型分子筛中的作用 | 第21-23页 |
| ·层状前驱体的硅烷化作用 | 第23-26页 |
| ·论文思路 | 第26-28页 |
| 第二章 分子有序的高结晶度MCM-50的合成 | 第28-45页 |
| ·引言 | 第28-29页 |
| ·实验部分 | 第29-32页 |
| ·试剂 | 第29页 |
| ·合成分子有序的高结晶度的MCM-50 | 第29-31页 |
| ·高结晶度的MCM-50的表征手段 | 第31-32页 |
| ·结果与讨论部分 | 第32-44页 |
| ·分子有序的MCM-50的合成 | 第32-33页 |
| ·分子有序的MCM-50合成参数的考察 | 第33-38页 |
| ·高结晶度MCM-50的表征 | 第38-41页 |
| ·水热合成MCM-50时引入杂原子Al,Ti | 第41页 |
| ·分子有序的MCM-50的结构解析 | 第41-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第三章 层状前驱体MCM-50硅烷化行为的研究 | 第45-69页 |
| ·前言 | 第45-46页 |
| ·实验部分 | 第46-49页 |
| ·试剂 | 第46页 |
| ·IEZ-MCM-50的制备 | 第46-47页 |
| ·IEZ-MCM-50的表征手段 | 第47-49页 |
| ·结果与讨论部分 | 第49-68页 |
| ·先用TMABr交换后插硅 | 第49-52页 |
| ·用硅烷化试剂直接插硅柱撑 | 第52-53页 |
| ·扩孔型IEZ-MCM-50的制备 | 第53-63页 |
| ·扩孔型IEZ-MCM-50的表征 | 第63-68页 |
| ·本章小结 | 第68-69页 |
| 第四章 IEZ-MCM-50的结构解析及其催化性能的研究 | 第69-77页 |
| ·前言 | 第69页 |
| ·实验部分 | 第69-70页 |
| ·试剂 | 第69-70页 |
| ·气固相置换法制备IEZ-Ti-MCM-50 | 第70页 |
| ·结果与讨论 | 第70-76页 |
| ·IEZ-MCM-50的结构解析 | 第70-76页 |
| ·本章小结 | 第76-77页 |
| 全文总结 | 第77-78页 |
| 参考文献 | 第78-83页 |
| 学习期间科研成果 | 第83-84页 |
| 致谢 | 第84页 |