激光微熔覆导电膜与基板的粘附性及可焊性的研究
摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-9页 |
1 绪论 | 第9-17页 |
·激光微熔覆技术的发展 | 第9-11页 |
·涂层粘附性和可焊性的研究进展 | 第11-14页 |
·本文所涉及课题的来源、目的和意义 | 第14页 |
·本论文的主要研究内容和技术方案 | 第14-17页 |
2 实验材料、设备与方法 | 第17-26页 |
·实验材料 | 第17-19页 |
·实验设备 | 第19-21页 |
·实验方法 | 第21-22页 |
·实验分析仪器装置 | 第22-25页 |
·本章小结 | 第25-26页 |
3 激光微熔覆层的粘附性与可焊性实验结果 | 第26-47页 |
·引言 | 第26页 |
·激光加工参数对激光微熔覆层粘附性的影响 | 第26-35页 |
·后续烧结温度对激光微熔覆层粘附性的影响 | 第35-39页 |
·不同工艺参数对导电金膜可焊性的影响 | 第39-46页 |
·本章小结 | 第46-47页 |
4 激光微熔覆层的粘附性与可焊性机理研究 | 第47-61页 |
·引言 | 第47页 |
·电子浆料的热分析 | 第47-49页 |
·金浆料的成分分析 | 第49-51页 |
·激光与膜层的相互作用 | 第51-57页 |
·膜层与基板的相互作用 | 第57-60页 |
·本章小结 | 第60-61页 |
5 总结与展望 | 第61-63页 |
·主要结论 | 第61-62页 |
·问题和展望 | 第62-63页 |
致谢 | 第63-64页 |
参考文献 | 第64-68页 |
攻读学位期间所发表的论文和获得的专利 | 第68页 |