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大功率微弧氧化脉冲电源的研制及铝合金表面处理工艺的研究

摘要第1-5页
ABSTRACT第5-9页
第一章 绪论第9-16页
   ·课题研究的背景及意义第9-10页
   ·相关研究领域及发展现状第10-14页
     ·微弧氧化技术的基本原理第10-11页
     ·微弧氧化技术的特点及应用领域第11-12页
     ·微弧氧化技术的研究现状第12-13页
     ·目前研究的不足之处第13-14页
   ·本论文的研究的目的和内容第14-16页
第二章 微弧氧化加工系统的设计第16-34页
   ·微弧氧化实验平台的总体介绍第16页
   ·微弧氧化电源系统的设计第16-24页
     ·变压器的设计第18-19页
     ·整流调压模块的设计第19-21页
       ·整流电路的选择第19页
       ·三相全桥全控整流电路元器件的选择第19-21页
       ·三相可控硅整流控制电路第21页
     ·斩波电路的设计第21-24页
   ·系统其他硬件电路设计第24-26页
     ·线路总开关的设计第24-25页
     ·电解水槽及电解液的设计第25-26页
     ·冷却系统的设计第26页
   ·微弧氧化电源系统的调试第26-32页
     ·变压器电路的调试第27页
     ·整流电路的调试第27-28页
     ·斩波电路的调试与仿真第28-32页
   ·水泵及电解水槽的调试第32-33页
   ·小结第33-34页
第三章 实验材料与实验方法第34-39页
   ·实验材料与实验工件的制备第34页
     ·实验材料第34页
     ·实验加工工件的制备第34页
   ·实验加工设备与实验过程第34-36页
     ·实验加工设备第34-35页
     ·实验过程第35-36页
   ·实验的方案第36-38页
     ·微弧氧化反应过程的描述第36页
     ·微弧氧化加工实验中脉冲电源参数的设计第36-38页
   ·LY12铝合金微弧氧化膜性能的测试方法第38-39页
     ·膜层厚度的测量第38页
     ·膜层微观形貌的测试第38页
     ·微弧氧化膜相结构的分析第38页
     ·微弧氧化膜硬度的测量第38-39页
第四章 电学参数对LY12铝合金微弧氧化膜性能的影响第39-59页
   ·微弧氧化电源的正脉冲幅值对膜层性能的影响第39-43页
     ·正脉冲幅值对微弧氧化膜膜层厚度的影响第39-40页
     ·正脉冲幅值对微弧氧化膜表面及截面形貌的影响第40-42页
     ·正脉冲幅值对微弧氧化膜相结构影响第42-43页
     ·正脉冲幅值对微弧氧化膜层硬度的影响第43页
   ·微弧氧化电源的负脉冲幅值对膜层性能的影响第43-47页
     ·负脉冲幅值对微弧氧化膜膜层厚度的影响第44-45页
     ·负脉冲幅值对微弧氧化膜表面形貌的影响第45页
     ·负脉冲幅值对微弧氧化膜相结构影响第45-46页
     ·负脉冲幅值对微弧氧化膜层硬度的影响第46-47页
   ·脉冲电源频率对膜层的影响第47-51页
     ·脉冲电源频率对膜层厚度的影响第48-49页
     ·脉冲电源频率对氧化膜表面形貌的影响第49-50页
     ·脉冲电源频率对微弧氧化膜相结构影响第50页
     ·脉冲电源频率对微弧氧化膜层硬度的影响第50-51页
   ·脉冲电源正电压的占空比对膜层性能的影响第51-54页
     ·正电压的占空比对微弧氧化膜膜层厚度的影响第51-52页
     ·正电压的占空比对微弧氧化膜表面形貌的影响第52-53页
     ·正电压的占空比对微弧氧化膜相结构影响第53页
     ·正电压的占空比对微弧氧化膜层硬度的影响第53-54页
   ·工件加工时间对氧化膜层性能的影响第54-58页
     ·加工时间对微弧氧化膜膜层厚度的影响第54-55页
     ·加工时间对微弧氧化膜表面形貌的影响第55-56页
     ·加工时间对微弧氧化膜相结构影响第56-57页
     ·加工时间对微弧氧化膜层硬度的影响第57-58页
   ·本章小结第58-59页
第五章 总结与展望第59-61页
   ·论文总结第59-60页
   ·课题的后续工作展望第60-61页
参考文献第61-64页
附录A FPGA程序源码第64-67页
致谢第67-68页
攻读学位期间发表的学术论文目录第68页

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