摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-9页 |
第一章 绪论 | 第9-16页 |
·课题研究的背景及意义 | 第9-10页 |
·相关研究领域及发展现状 | 第10-14页 |
·微弧氧化技术的基本原理 | 第10-11页 |
·微弧氧化技术的特点及应用领域 | 第11-12页 |
·微弧氧化技术的研究现状 | 第12-13页 |
·目前研究的不足之处 | 第13-14页 |
·本论文的研究的目的和内容 | 第14-16页 |
第二章 微弧氧化加工系统的设计 | 第16-34页 |
·微弧氧化实验平台的总体介绍 | 第16页 |
·微弧氧化电源系统的设计 | 第16-24页 |
·变压器的设计 | 第18-19页 |
·整流调压模块的设计 | 第19-21页 |
·整流电路的选择 | 第19页 |
·三相全桥全控整流电路元器件的选择 | 第19-21页 |
·三相可控硅整流控制电路 | 第21页 |
·斩波电路的设计 | 第21-24页 |
·系统其他硬件电路设计 | 第24-26页 |
·线路总开关的设计 | 第24-25页 |
·电解水槽及电解液的设计 | 第25-26页 |
·冷却系统的设计 | 第26页 |
·微弧氧化电源系统的调试 | 第26-32页 |
·变压器电路的调试 | 第27页 |
·整流电路的调试 | 第27-28页 |
·斩波电路的调试与仿真 | 第28-32页 |
·水泵及电解水槽的调试 | 第32-33页 |
·小结 | 第33-34页 |
第三章 实验材料与实验方法 | 第34-39页 |
·实验材料与实验工件的制备 | 第34页 |
·实验材料 | 第34页 |
·实验加工工件的制备 | 第34页 |
·实验加工设备与实验过程 | 第34-36页 |
·实验加工设备 | 第34-35页 |
·实验过程 | 第35-36页 |
·实验的方案 | 第36-38页 |
·微弧氧化反应过程的描述 | 第36页 |
·微弧氧化加工实验中脉冲电源参数的设计 | 第36-38页 |
·LY12铝合金微弧氧化膜性能的测试方法 | 第38-39页 |
·膜层厚度的测量 | 第38页 |
·膜层微观形貌的测试 | 第38页 |
·微弧氧化膜相结构的分析 | 第38页 |
·微弧氧化膜硬度的测量 | 第38-39页 |
第四章 电学参数对LY12铝合金微弧氧化膜性能的影响 | 第39-59页 |
·微弧氧化电源的正脉冲幅值对膜层性能的影响 | 第39-43页 |
·正脉冲幅值对微弧氧化膜膜层厚度的影响 | 第39-40页 |
·正脉冲幅值对微弧氧化膜表面及截面形貌的影响 | 第40-42页 |
·正脉冲幅值对微弧氧化膜相结构影响 | 第42-43页 |
·正脉冲幅值对微弧氧化膜层硬度的影响 | 第43页 |
·微弧氧化电源的负脉冲幅值对膜层性能的影响 | 第43-47页 |
·负脉冲幅值对微弧氧化膜膜层厚度的影响 | 第44-45页 |
·负脉冲幅值对微弧氧化膜表面形貌的影响 | 第45页 |
·负脉冲幅值对微弧氧化膜相结构影响 | 第45-46页 |
·负脉冲幅值对微弧氧化膜层硬度的影响 | 第46-47页 |
·脉冲电源频率对膜层的影响 | 第47-51页 |
·脉冲电源频率对膜层厚度的影响 | 第48-49页 |
·脉冲电源频率对氧化膜表面形貌的影响 | 第49-50页 |
·脉冲电源频率对微弧氧化膜相结构影响 | 第50页 |
·脉冲电源频率对微弧氧化膜层硬度的影响 | 第50-51页 |
·脉冲电源正电压的占空比对膜层性能的影响 | 第51-54页 |
·正电压的占空比对微弧氧化膜膜层厚度的影响 | 第51-52页 |
·正电压的占空比对微弧氧化膜表面形貌的影响 | 第52-53页 |
·正电压的占空比对微弧氧化膜相结构影响 | 第53页 |
·正电压的占空比对微弧氧化膜层硬度的影响 | 第53-54页 |
·工件加工时间对氧化膜层性能的影响 | 第54-58页 |
·加工时间对微弧氧化膜膜层厚度的影响 | 第54-55页 |
·加工时间对微弧氧化膜表面形貌的影响 | 第55-56页 |
·加工时间对微弧氧化膜相结构影响 | 第56-57页 |
·加工时间对微弧氧化膜层硬度的影响 | 第57-58页 |
·本章小结 | 第58-59页 |
第五章 总结与展望 | 第59-61页 |
·论文总结 | 第59-60页 |
·课题的后续工作展望 | 第60-61页 |
参考文献 | 第61-64页 |
附录A FPGA程序源码 | 第64-67页 |
致谢 | 第67-68页 |
攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第68页 |