| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-26页 |
| ·半导体光催化原理 | 第11-14页 |
| ·半导体材料光催化性能的影响因素 | 第14-18页 |
| ·晶体结构的影响 | 第14-15页 |
| ·粒径的影响 | 第15-16页 |
| ·比表面积的影响 | 第16页 |
| ·表面态性质的影响 | 第16-17页 |
| ·光生电子和空穴的分离与捕获 | 第17页 |
| ·反应体系的pH值 | 第17-18页 |
| ·可见光响应高活性半导体材料的设计思路 | 第18-24页 |
| ·掺杂 | 第18-20页 |
| ·复合半导体光催化剂 | 第20-22页 |
| ·染料敏化 | 第22-24页 |
| ·本文的研究内容 | 第24-26页 |
| 第二章 石墨烯修饰的多级孔结构TiO_2块体的制备与研究 | 第26-40页 |
| ·引言 | 第26-27页 |
| ·实验部分 | 第27-31页 |
| ·实验药品 | 第27页 |
| ·仪器设备 | 第27-28页 |
| ·石墨烯修饰的多级孔结构TiO_2块体的制备 | 第28页 |
| ·块体光催化性能测试 | 第28-29页 |
| ·催化剂的表征 | 第29-31页 |
| ·实验结果与讨论 | 第31-39页 |
| ·TiO_2块体的光催化性能 | 第31-33页 |
| ·TiO_2块体X射线衍射分析 | 第33-36页 |
| ·TiO_2块体的DRS分析 | 第36-37页 |
| ·TiO_2块体的XPS分析 | 第37-38页 |
| ·TiO_2块体的光催化稳定性 | 第38-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 第三章 盐酸溶液处理BiVO_4粉末的制备与研究 | 第40-54页 |
| ·引言 | 第40-41页 |
| ·实验部分 | 第41-44页 |
| ·实验药品 | 第41页 |
| ·仪器设备 | 第41-42页 |
| ·催化剂的制备 | 第42页 |
| ·催化剂光催化活性测试 | 第42-43页 |
| ·催化剂的表征 | 第43页 |
| ·BiOCl平带电位测试 | 第43-44页 |
| ·实验结果与讨论 | 第44-52页 |
| ·催化剂的光催化性能 | 第44-45页 |
| ·HCl处理增强光催化活性的原因 | 第45-46页 |
| ·催化剂的结构表征分析 | 第46-49页 |
| ·光催化活性增强机理的探讨 | 第49-52页 |
| ·本章小结 | 第52-54页 |
| 第四章 Au/BiVO_4与BiOI复合高活性光催化体系的制备与性能研究 | 第54-64页 |
| ·引言 | 第54页 |
| ·实验部分 | 第54-56页 |
| ·实验药品 | 第54-55页 |
| ·仪器设备 | 第55页 |
| ·催化剂的制备 | 第55-56页 |
| ·催化剂的可见光催化性能研究 | 第56页 |
| ·实验结果与讨论 | 第56-63页 |
| ·纳米Au负载的影响 | 第56-57页 |
| ·复合体系比例的优化 | 第57-58页 |
| ·pH值的影响 | 第58-59页 |
| ·复合体系的稳定性 | 第59-60页 |
| ·复合体系活性增强机理的探讨 | 第60-63页 |
| ·本章小结 | 第63-64页 |
| 第五章 全文总结 | 第64-67页 |
| ·主要结论 | 第64-65页 |
| ·主要创新点 | 第65页 |
| ·研究展望 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-76页 |
| 致谢 | 第76-77页 |
| 攻读硕士学位期间已发表或录用的论文 | 第77-79页 |