不同纳米结构减反射层对单晶硅太阳能电池效率的影响
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 引言 | 第8-9页 |
| 1 绪论 | 第9-13页 |
| ·太阳能电池简介 | 第9-10页 |
| ·太阳能电池的发展历程 | 第9页 |
| ·太阳能电池的理论依据 | 第9-10页 |
| ·太阳能电池的分类 | 第10-11页 |
| ·按电池衬底材料分类 | 第10页 |
| ·按电池结构分类 | 第10-11页 |
| ·硅电池简介 | 第11-12页 |
| ·本论文的内容和意义 | 第12页 |
| ·本论文的内容 | 第12页 |
| ·本论文的意义 | 第12页 |
| 本章小结 | 第12-13页 |
| 2 单晶硅电池制造工艺 | 第13-21页 |
| ·太阳能级硅材料的制备 | 第13-16页 |
| ·太阳能级硅材料的提纯工艺 | 第13页 |
| ·单晶硅锭的制备 | 第13-15页 |
| ·单晶硅棒切片工艺 | 第15-16页 |
| ·制备单晶硅太阳能电池的工艺过程 | 第16-20页 |
| 本章总结 | 第20-21页 |
| 3 减反射层在单晶硅太阳能电池中的应用 | 第21-30页 |
| ·绒面制备 | 第21-22页 |
| ·制绒原理 | 第21-22页 |
| ·工艺参数对绒面制备的影响 | 第22页 |
| ·多孔硅结构制备 | 第22-24页 |
| ·多孔硅的制备原理 | 第23-24页 |
| ·影响多孔硅结构制备的因素 | 第24页 |
| ·纳米线结构制备 | 第24-27页 |
| ·化学湿法刻蚀硅纳米线的制备原理 | 第25-26页 |
| ·制备硅纳米线的影响因素 | 第26-27页 |
| ·薄膜减反射层制备 | 第27-29页 |
| ·薄膜减反射层制备原理 | 第27-28页 |
| ·工艺参数对薄膜减反射层的影响 | 第28-29页 |
| 本章小结 | 第29-30页 |
| 4 样品制备与表征设备 | 第30-38页 |
| ·样品制备设备 | 第30-32页 |
| ·PECVD沉积系统 | 第30页 |
| ·扩散炉系统 | 第30-31页 |
| ·等离子去边设备 | 第31-32页 |
| ·表征设备 | 第32-37页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第32-34页 |
| ·反射率测量系统 | 第34-36页 |
| ·量子效率测量系统 | 第36-37页 |
| 本章小结 | 第37-38页 |
| 5 探究不同减反射层对单晶硅电池效率的影响 | 第38-47页 |
| ·湿法化学刻蚀制备金字塔/纳米线双重结构减反射层 | 第38-43页 |
| ·样品制备 | 第38-39页 |
| ·样品表征 | 第39-41页 |
| ·对比样品的制备 | 第41页 |
| ·对比样品的表征 | 第41-43页 |
| ·基于金字塔/硅纳米线结构减反射层制备电池 | 第43-46页 |
| ·太阳能电池的制备与参数测量 | 第43-44页 |
| ·结果分析与讨论 | 第44-46页 |
| 本章小结 | 第46-47页 |
| 结论 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-51页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第51-52页 |
| 致谢 | 第52-53页 |
