| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-46页 |
| ·信息存储技术 | 第10-18页 |
| ·信息存储技术概况 | 第10-11页 |
| ·磁性与磁存储技术 | 第11-15页 |
| ·铁电性与铁电存储技术 | 第15-17页 |
| ·信息存储技术的比较与小结 | 第17-18页 |
| ·多铁性材料及其磁电耦合 | 第18-26页 |
| ·多铁性材料的定义及特点 | 第18-20页 |
| ·多铁性材料的历史简介[23-25] | 第20-21页 |
| ·多铁性的起源与分类 | 第21-26页 |
| ·复合多铁结构及电场调控磁性 | 第26-35页 |
| ·复合多铁结构的分类 | 第26-28页 |
| ·复合多铁结构与电场调控磁性 | 第28-35页 |
| ·多铁性材料在信息储器方面的应用 | 第35-44页 |
| ·磁电阻效应及其分类 | 第35-39页 |
| ·多铁性磁电多态存储器 | 第39-41页 |
| ·电写/磁读式新型多铁存储器 | 第41-44页 |
| ·本论文的选题思路和研究内容 | 第44-46页 |
| 第2章 实验方法 | 第46-69页 |
| ·样品的制备技术 | 第46-52页 |
| ·脉冲激光沉积技术 | 第46-50页 |
| ·磁控溅射镀膜技术 | 第50-52页 |
| ·物性的测量、分析与表征技术 | 第52-69页 |
| ·宏观磁性的测量与表征技术 | 第52-56页 |
| ·宏观铁电性与压电性的表征技术 | 第56-58页 |
| ·铁电性与铁磁性的微观表征技术 | 第58-63页 |
| ·X 射线衍射技术与晶体结构分析[145] | 第63-67页 |
| ·电输运性质的测量及微加工技术 | 第67-69页 |
| 第3章 CoFeB/PMN-PT(001)结构中电场对磁性调控的研究 | 第69-98页 |
| ·引言 | 第69-71页 |
| ·样品的制备与基本性质表征 | 第71-74页 |
| ·样品的制备 | 第71-72页 |
| ·样品织构的表征 | 第72-73页 |
| ·样品的铁电性与压电性表征 | 第73-74页 |
| ·电场调控磁性的研究 | 第74-81页 |
| ·电场对磁各向异性的调控 | 第74-77页 |
| ·电场对磁化强度的调控 | 第77-79页 |
| ·电场调控磁性的微观表征 | 第79-81页 |
| ·机制研究与探讨 | 第81-94页 |
| ·界面电荷调制及电流效应的排除 | 第81-82页 |
| ·PMN-PT 铁电畴的分析与表征 | 第82-86页 |
| ·非晶 CoFeB 对 109°电畴翻转的响应 | 第86-87页 |
| ·基于 XRD-RSM 的定量分析 | 第87-92页 |
| ·基于机制的推论和验证 | 第92-94页 |
| ·应用性需求的相关表征 | 第94-97页 |
| ·调控的疲劳性和保持性研究 | 第94-95页 |
| ·磁场辅助的电场控制磁矩翻转 | 第95-97页 |
| ·本章小结 | 第97-98页 |
| 第4章 CoFeB/PMN-PT(011)结构电调控磁及磁电阻的研究 | 第98-114页 |
| ·引言 | 第98-99页 |
| ·样品的制备与表征 | 第99-102页 |
| ·样品的制备 | 第99-100页 |
| ·样品的基本性质表征 | 第100-102页 |
| ·电场调控磁性的研究 | 第102-110页 |
| ·电场对磁化强度的调控 | 第102-105页 |
| ·调控机制的定量研究 | 第105-108页 |
| ·调控行为的应用性设计 | 第108-110页 |
| ·电场对磁电阻调控的研究 | 第110-113页 |
| ·磁性钉扎层的制备及电场的调控效应 | 第110-111页 |
| ·自旋阀结构的制备及电场对磁电阻的调控 | 第111-113页 |
| ·本章小结 | 第113-114页 |
| 第5章 总结 | 第114-116页 |
| ·研究总结 | 第114-115页 |
| ·展望 | 第115-116页 |
| 参考文献 | 第116-126页 |
| 致谢 | 第126-128页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第128-129页 |