摘要 | 第1-7页 |
Abstract | 第7-12页 |
第1章 绪论 | 第12-32页 |
·前言 | 第12-14页 |
·光限幅机理 | 第14-16页 |
·非线性散射(NLS) | 第14页 |
·多光子吸收(MPA) | 第14-15页 |
·非线性折射(NLR) | 第15页 |
·载流子吸收(FCA) | 第15页 |
·反饱和吸收(RSA) | 第15-16页 |
·Z扫描仪 | 第16-17页 |
·高分了改性富勒烯 | 第17-24页 |
·自由基引发的聚合反应 | 第18-20页 |
·Friedel-Crafts烷基化反应 | 第20页 |
·胺加成反应 | 第20-21页 |
·活性碳负离子加成反应 | 第21-22页 |
·环加成反应 | 第22-24页 |
·富勒烯及其衍生物的光限幅性质 | 第24-30页 |
·富勒烯的光限幅性质 | 第24页 |
·富勒烯掺杂复合物的光限幅性能 | 第24-26页 |
·富勒烯键合材料的光限幅性能 | 第26-30页 |
·课题的提出 | 第30-32页 |
第2章 咔唑、苯并噻二唑和芴高分子功能化的衍生物的制备及其光限幅性能 | 第32-47页 |
·实验部分 | 第33-38页 |
·仪器与试剂 | 第33页 |
·材料合成 | 第33-38页 |
·结果与讨论 | 第38-46页 |
·核磁表征与分析 | 第38-39页 |
·材料的热性能研究 | 第39-40页 |
·材料的线性光学研究 | 第40-42页 |
·电化学分析 | 第42-46页 |
·本章小结 | 第46-47页 |
第3章 基于三苯胺和芴的共轭高分子共价修饰的C_(60)衍生物的合成及其光限幅性能 | 第47-64页 |
·实验部分 | 第48-52页 |
·仪器与试剂 | 第48页 |
·材料合成 | 第48-52页 |
·结果与讨论 | 第52-63页 |
·核磁分析 | 第52-53页 |
·材料的线性光学性质 | 第53-55页 |
·电化学分析 | 第55-56页 |
·高分子的热性能 | 第56-58页 |
·非线性光学及光限幅性质 | 第58-63页 |
·本章小结 | 第63-64页 |
第4章 基于咔唑和芴的共轭高分子共价修饰的C_(60)衍生物的设计和制备 | 第64-72页 |
·实验部分 | 第64-66页 |
·仪器与试剂 | 第64-65页 |
·材料合成 | 第65-66页 |
·结果与讨论 | 第66-70页 |
·核磁分析 | 第66-68页 |
·材料的线性光学性质 | 第68-69页 |
·热性能分析 | 第69-70页 |
·电化学分析 | 第70页 |
·非线性光学及光限幅性质 | 第70-71页 |
·本章小结 | 第71-72页 |
结论及展望 | 第72-74页 |
参考文献 | 第74-86页 |
致谢 | 第86-88页 |
附录Ⅰ 论文中缩写词对照 | 第88-89页 |
附录Ⅱ 攻读硕士期间发表论文目录 | 第89-90页 |
附录Ⅲ 在校期间获奖情况 | 第90页 |