| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-23页 |
| ·引言 | 第8-9页 |
| ·SnO_2透明导电薄膜简介 | 第9-14页 |
| ·SnO_2基本结构 | 第9页 |
| ·研究进展 | 第9-10页 |
| ·导电机理 | 第10-12页 |
| ·光学性能及节能原理 | 第12-13页 |
| ·透明导电薄膜的应用 | 第13-14页 |
| ·增透膜简介 | 第14-16页 |
| ·研究进展 | 第14-15页 |
| ·薄膜增透原理 | 第15页 |
| ·增透膜的应用 | 第15-16页 |
| ·薄膜制备技术 | 第16-19页 |
| ·化学气相沉积(CVD)法 | 第16-17页 |
| ·磁控溅射(MS)法 | 第17页 |
| ·喷雾热解(SP)法 | 第17页 |
| ·分子束外延(MBE)法 | 第17页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD)法 | 第17页 |
| ·溶胶-凝胶(Sol-Gel)法 | 第17-19页 |
| ·溶胶-凝胶法基本理论 | 第19-22页 |
| ·溶胶-凝胶法简介 | 第19页 |
| ·溶胶-凝胶工艺特点 | 第19-20页 |
| ·溶胶-凝胶基本原理 | 第20页 |
| ·溶胶-凝胶工艺流程 | 第20-21页 |
| ·溶胶-凝胶工艺常用的涂膜方法 | 第21-22页 |
| ·本课题的立题依据及主要研究内容 | 第22-23页 |
| 第二章 实验试剂、仪器及表征方法 | 第23-25页 |
| ·主要实验试剂 | 第23页 |
| ·实验仪器 | 第23页 |
| ·表征方法 | 第23-25页 |
| ·热重-差示扫描热(TG-DSC)分析 | 第23-24页 |
| ·X射线衍射(XRD)分析 | 第24页 |
| ·红外光谱(FTIR)分析 | 第24页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM)分析 | 第24页 |
| ·电学性能的测定 | 第24页 |
| ·折射率的测定 | 第24页 |
| ·光学性能的测定 | 第24-25页 |
| 第三章 SiO_2增透膜的制备与光学性能研究 | 第25-39页 |
| ·引言 | 第25页 |
| ·SiO_2薄膜的制备及影响因素 | 第25-28页 |
| ·SiO_2薄膜的制备 | 第25-26页 |
| ·反应条件对薄膜性能的影响 | 第26-28页 |
| ·结果与讨论 | 第28-37页 |
| ·热重-差示扫描热(TG-DSC)分析 | 第28-29页 |
| ·X射线衍射(XRD)分析 | 第29页 |
| ·红外光谱(FTIR)分析 | 第29-30页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM)分析 | 第30页 |
| ·光学性能分析 | 第30-37页 |
| ·折射率和孔隙率的计算 | 第37页 |
| ·本章小结 | 第37-39页 |
| 第四章 SnO_2：Sb透明导电膜的制备与光电性能研究 | 第39-49页 |
| ·引言 | 第39页 |
| ·SnO_2：Sb薄膜的制备 | 第39-41页 |
| ·溶胶的制备 | 第39-40页 |
| ·薄膜的制备 | 第40-41页 |
| ·结果与讨论 | 第41-47页 |
| ·X射线衍射(XRD)分析 | 第41-42页 |
| ·红外光谱(FTIR)分析 | 第42-43页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM)分析 | 第43-44页 |
| ·导电性能分析 | 第44-45页 |
| ·光学性能分析 | 第45-47页 |
| ·折射率分析 | 第47页 |
| ·本章小结 | 第47-49页 |
| 第五章 SnO_2：Sb/SiO_2复合薄膜的制备与性能研究 | 第49-58页 |
| ·引言 | 第49页 |
| ·膜系设计 | 第49-50页 |
| ·复合薄膜的制备 | 第50-51页 |
| ·SnO_2：Sb溶胶及SiO_2溶胶的制备 | 第50页 |
| ·SnO_2：Sb/SiO_2复合薄膜的制备 | 第50-51页 |
| ·结果与讨论 | 第51-56页 |
| ·X射线衍射(XRD)分析 | 第51-52页 |
| ·红外光谱(FTIR)分析 | 第52-53页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM)分析 | 第53页 |
| ·低辐射性能分析 | 第53页 |
| ·折射率分析 | 第53-54页 |
| ·光学性能分析 | 第54-56页 |
| ·化学稳定性分析 | 第56页 |
| ·本章小结 | 第56-58页 |
| 结论 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-63页 |
| 附录 | 第63页 |