| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-9页 |
| ·引言 | 第7页 |
| ·紫外滤光片的发展状况 | 第7页 |
| ·论文研究目的和内容 | 第7-9页 |
| 第二章 膜系设计的理论基础 | 第9-23页 |
| ·光学薄膜的理论基础 | 第9-14页 |
| ·干涉截止滤光片的膜系 | 第14-17页 |
| ·膜系自动设计的优化技术 | 第17-18页 |
| ·材料的研究 | 第18-20页 |
| ·光学常数的优化 | 第20-23页 |
| 第三章 薄膜制备技术 | 第23-36页 |
| ·真空镀膜技术 | 第23-30页 |
| ·磁偏转式电子束蒸发源的工作原理 | 第30-31页 |
| ·离子辅助沉积系统 | 第31-33页 |
| ·晶体厚度控制仪(IC5) | 第33-36页 |
| 第四章 254nm低通滤光片的制备、测试与分析 | 第36-42页 |
| ·膜系的设计 | 第36-37页 |
| ·工艺参数的优化 | 第37-39页 |
| ·254nm低通滤光片的制备 | 第39页 |
| ·检测方法 | 第39-40页 |
| ·检测结果 | 第40-41页 |
| ·分析 | 第41-42页 |
| 结论 | 第42-43页 |
| 致谢 | 第43-44页 |
| 参考文献 | 第44-45页 |