三乙氧基硅烷歧化制取甲硅烷工艺研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-20页 |
| ·课题背景 | 第8-10页 |
| ·硅材料的性质和研究进展 | 第10-19页 |
| ·工业硅及研究进展 | 第11-12页 |
| ·多晶硅及研究进展 | 第12-17页 |
| ·多晶硅生产工艺对比 | 第17-18页 |
| ·有机硅性质 | 第18-19页 |
| ·本课题主要研究内容 | 第19-20页 |
| 第2章 实验材料及测试方法 | 第20-25页 |
| ·实验仪器及药品 | 第20-21页 |
| ·实验所需仪器 | 第20页 |
| ·实验所需药品 | 第20-21页 |
| ·表征和测试方法 | 第21-25页 |
| 第3章 三乙氧基硅烷歧化并制取硅烷工艺研究 | 第25-42页 |
| ·引言 | 第25页 |
| ·三乙氧基硅烷歧化实验装置及工艺流程图 | 第25-29页 |
| ·三乙氧基硅烷歧化实验装置 | 第25-26页 |
| ·三乙氧基硅烷歧化工艺流程图 | 第26-29页 |
| ·药品预处理 | 第29-30页 |
| ·三乙氧基硅烷歧化制取甲硅烷工艺参数研究 | 第30-38页 |
| ·溶剂的影响 | 第31-35页 |
| ·温度的影响 | 第35-36页 |
| ·助催化剂的影响 | 第36-37页 |
| ·原料预处理的影响 | 第37-38页 |
| ·产物的定量分析 | 第38-40页 |
| ·本章小结 | 第40-42页 |
| 第4章 三乙氧基硅烷歧化制取甲硅烷机理研究 | 第42-52页 |
| ·引言 | 第42-43页 |
| ·硅原子的结构与性质 | 第43-44页 |
| ·硅的电负性及键能 | 第43-44页 |
| ·硅烷偶联剂偶联机理 | 第44-46页 |
| ·三乙氧基硅烷歧化机理研究 | 第46-48页 |
| ·助催化剂机理的研究 | 第48-49页 |
| ·甲硅烷氧化机理的研究 | 第49-51页 |
| ·甲硅烷物化性质 | 第49-50页 |
| ·甲硅烷氧化机理研究 | 第50-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 结论 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-57页 |
| 致谢 | 第57页 |