硅纳米晶体与铁电薄膜的椭偏光谱研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第6-13页 |
| ·椭偏光谱测量技术的发展与应用 | 第6-8页 |
| ·硅发光研究与硅纳米晶体 | 第8-10页 |
| ·铁电性与铁电薄膜 | 第10-12页 |
| ·本论文的研究内容 | 第12-13页 |
| 第二章 椭偏光谱测量与分析原理 | 第13-26页 |
| ·椭偏光谱测量原理 | 第13-16页 |
| ·材料的光学常数与Kramas-Kronig关系 | 第13-15页 |
| ·菲涅尔公式和椭偏参数的推导 | 第15-16页 |
| ·椭偏仪的构造和椭偏参数分析 | 第16-21页 |
| ·RAP型椭偏光谱仪结构与原理 | 第17-18页 |
| ·椭偏光谱的分析方法 | 第18-21页 |
| ·光学色散模型 | 第21-26页 |
| ·常用的光学色散模型 | 第22-24页 |
| ·有效介质近似 | 第24-26页 |
| 第三章 硅纳米晶体光学性质的研究 | 第26-34页 |
| ·硅纳米晶体研究现状 | 第26-27页 |
| ·样品制备与测量 | 第27-30页 |
| ·椭偏分析与光学性质的研究 | 第30-32页 |
| ·小结 | 第32-34页 |
| 第四章 电子束蒸发制备硅纳米晶体的研究 | 第34-42页 |
| ·样品制备 | 第34-35页 |
| ·样品表征与测量 | 第35-40页 |
| ·小结 | 第40-42页 |
| 第五章 BNdT铁电薄膜的椭偏光谱研究 | 第42-49页 |
| ·铁电薄膜的性质与研究现状 | 第42页 |
| ·样品制备与椭偏参数的测量 | 第42-43页 |
| ·椭偏参数拟合与讨论 | 第43-48页 |
| ·小结 | 第48-49页 |
| 第六章 工作总结 | 第49-51页 |
| 参考文献 | 第51-54页 |
| 攻读硕士学位期间发表论文 | 第54-55页 |
| 致谢 | 第55-57页 |
