| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-24页 |
| ·介质薄膜材料的特性 | 第9-17页 |
| ·高透明性 | 第9-10页 |
| ·吸收和散射 | 第10-12页 |
| ·折射率 | 第12-14页 |
| ·薄膜材料的机械性质 | 第14-16页 |
| ·薄膜的抗激光损伤 | 第16-17页 |
| ·光学薄膜的应用研究进展 | 第17-22页 |
| ·软X射线膜 | 第18页 |
| ·红外截止滤光片 | 第18-19页 |
| ·合色棱镜 | 第19-20页 |
| ·色轮 | 第20页 |
| ·光纤通信用光学薄膜 | 第20-22页 |
| ·建筑用光学薄膜 | 第22页 |
| ·Ta_2O_5薄膜的应用研究现状 | 第22页 |
| ·本论文研究的目的和内容 | 第22-24页 |
| 第2章 介质光学薄膜的制备 | 第24-35页 |
| ·试验仪器与设备 | 第24-28页 |
| ·ZZS700-6/G型箱式真空镀膜机 | 第24页 |
| ·真空的获得与测量 | 第24-26页 |
| ·电子枪 | 第26-27页 |
| ·离子源 | 第27-28页 |
| ·Ta_2O_5单层膜试验 | 第28-32页 |
| ·正交试验 | 第28-29页 |
| ·正交试验结果 | 第29-30页 |
| ·透射光谱 | 第30-32页 |
| ·红外截止滤光片的制备 | 第32-35页 |
| 第3章 Ta_2O_5薄膜性能测试及表征 | 第35-58页 |
| ·Ta_2O_5薄膜的光学特性 | 第35-43页 |
| ·薄膜光学常数的确定方法 | 第35-40页 |
| ·基片温度对薄膜光学常数的影响 | 第40-42页 |
| ·薄膜厚度对薄膜光学性能的影响 | 第42-43页 |
| ·Ta_2O_5薄膜的AFM研究 | 第43-52页 |
| ·AFM原理 | 第43-45页 |
| ·基片温度对Ta_2O_5薄膜微观结构的影响 | 第45-50页 |
| ·薄膜厚度对Ta_2O_5薄膜微观结构的影响 | 第50-52页 |
| ·Ta_2O_5薄膜的光电子能谱分析 | 第52-58页 |
| ·X射线光电子能谱分析技术 | 第52-54页 |
| ·Ta_2O_5薄膜的XPS研究 | 第54-58页 |
| 第4章 红外截止滤光片表面缺陷研究 | 第58-71页 |
| ·红外截止滤光片透射光谱 | 第58页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM)及能谱分析(EDS)技术 | 第58-59页 |
| ·红外截止滤光片表面缺陷的研究 | 第59-71页 |
| ·红外截止滤光片黑点分析 | 第60-63页 |
| ·红外截止滤光片亮点分析 | 第63-71页 |
| 第5章 结论 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-78页 |
| 致谢 | 第78-79页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第79页 |