中文摘要 | 第1-4页 |
英文摘要 | 第4-8页 |
第一章 综述 | 第8-38页 |
·研究现状 | 第8-26页 |
·非晶态碳氮薄膜的微观结构和性质 | 第10-18页 |
·一些特殊的碳氮相 | 第18-23页 |
·掺杂的碳氮薄膜 | 第23-26页 |
·理论背景 | 第26-35页 |
·非晶态半导体的电输运理论 | 第26-28页 |
·磁性金属颗粒膜中的隧道型磁电阻(TMR)理论 | 第28-31页 |
·多层膜体系中硬度增强理论 | 第31-35页 |
·本论文的工作 | 第35-38页 |
第二章 薄膜的制备、结构表征和物性测量 | 第38-46页 |
·薄膜的制备 | 第38-41页 |
·对向靶直流磁控溅射原理 | 第39-40页 |
·薄膜的制备过程 | 第40-41页 |
·薄膜的退火处理 | 第41-42页 |
·薄膜的结构表征和物性测量 | 第42-46页 |
·表面形貌和薄膜厚度测量 | 第42页 |
·成份分析和结构表征 | 第42-43页 |
·光学性质的测量 | 第43页 |
·输运特性和磁性的测量 | 第43-44页 |
·力学性质的测量 | 第44-46页 |
第三章 非晶态碳氮薄膜的结构和性质 | 第46-70页 |
·非晶态碳氮薄膜的结构 | 第46-55页 |
·低氮气分压下碳氮薄膜结构的演变 | 第46-50页 |
·高氮气分压下碳氮薄膜结构的演变 | 第50-55页 |
·非晶态碳氮薄膜的电输运性质 | 第55-57页 |
·非晶态碳氮薄膜的光学性质 | 第57-59页 |
·非晶态碳氮薄膜的力学性质 | 第59-63页 |
·非晶态碳氮薄膜的热稳定性 | 第63-68页 |
·本章小结 | 第68-70页 |
第四章 (Ni, Fe, Co, Cu, Ti)-CN_x颗粒膜的微观结构和输运性质 | 第70-102页 |
·(Ni, Fe, Co, Cu, Ti)-CN_x 颗粒膜的成份和微观结构 | 第70-77页 |
·(Ni, Fe, Co, Cu, Ti)-CN_x 颗粒膜的成份 | 第70-72页 |
·(Ni, Fe, Co, Cu, Ti)-CN_x 颗粒膜的微观结构 | 第72-77页 |
·(Ni, Fe, Co, Cu, Ti)-CN_x 颗粒膜的磁性和输运性质 | 第77-92页 |
·(Ni, Fe, Co, Cu, Ti)-CN_x 颗粒膜的磁性 | 第77-79页 |
·(Ni, Fe, Co, Cu, Ti)-CN_x 颗粒膜的输运性质 | 第79-85页 |
·(Ni, Fe, Co, Cu, Ti)-CN_x 颗粒膜的磁电阻 | 第85-92页 |
·(Ni, Fe, Co)-CN_x 颗粒膜中磁电阻增强现象的物理机制 | 第92-100页 |
·本章小结 | 第100-102页 |
第五章 TiN/CN 多层薄膜的微观结构和力学性质 | 第102-126页 |
·氮化钛单层薄膜的微观结构和力学性质 | 第102-108页 |
·TiN/CN 多层薄膜的微观结构和力学性质 | 第108-123页 |
·不同氮化钛层厚度的多层膜的结构和力学性质 | 第108-119页 |
·不同碳氮层厚度的多层膜的结构和力学性质 | 第119-123页 |
·本章小结 | 第123-126页 |
第六章 结论 | 第126-128页 |
参考文献 | 第128-143页 |
攻读学位期间完成的学术论文 | 第143-145页 |
致谢 | 第145页 |