矩量法分析目标的近场电磁散射
摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-9页 |
第一章 引言 | 第9-13页 |
第二章 电磁散射中的近场 | 第13-19页 |
·有关近场的划分标准 | 第13-15页 |
·根据天线辐射场离场源的距离与工作波长之比来划分 | 第13-14页 |
·根据目标到观察点之间的距离来划分 | 第14页 |
·根据电磁场理论中辐射场确定的方法来划分 | 第14-15页 |
·“近区”RCS的定义 | 第15-18页 |
·基于远场RCS的定义 | 第16-17页 |
·广义雷达散射截面定义一 | 第17页 |
·广义雷达散射截面定义二 | 第17-18页 |
·近场的几种模型 | 第18页 |
·小结 | 第18-19页 |
第三章 导体目标的近场电磁散射 | 第19-32页 |
·矢量基函数和导体目标的电场积分方程 | 第19-21页 |
·互易原理 | 第21-24页 |
·导电金属球 | 第24-29页 |
·利用互易原理计算导电球附近水平偶极子的电磁散射 | 第24-27页 |
·导电球的的近场电磁散射特性随角度的变化 | 第27-29页 |
·导电立方体和导电平板 | 第29-31页 |
·导电立方体 | 第29-30页 |
·导电平板 | 第30-31页 |
·小结 | 第31-32页 |
第四章 介质目标的电磁散射 | 第32-40页 |
·等效原理 | 第32-35页 |
·均匀介质球 | 第35-38页 |
·远场平面波入射,近场接收 | 第35-37页 |
·球面波入射,近区接收 | 第37-38页 |
·均匀介质圆柱均匀介质立方体 | 第38-39页 |
·均匀介质圆柱 | 第38页 |
·均匀介质立方体 | 第38-39页 |
·小结 | 第39-40页 |
第五章 涂层目标的近场电磁散射 | 第40-53页 |
·涂层导体目标的电磁场积分方程 | 第40-44页 |
·介质涂敷的导电球 | 第44-46页 |
·介质涂敷的导电立方体 | 第46-47页 |
·涂层介质的介质目标的电磁场积分方程 | 第47-50页 |
·介质涂敷的介质目标 | 第50-52页 |
·双层介质球ε_1=ε_2=4ε_0 | 第50-51页 |
·双层介质球ε_1=ε_2 | 第51-52页 |
·小结 | 第52-53页 |
第六章 结束语 | 第53-55页 |
·全文总结 | 第53页 |
·展望 | 第53-55页 |
参考文献 | 第55-58页 |
在校期间发表的论文 | 第58-59页 |
致谢 | 第59页 |