| 第一章：绪论 | 第1-24页 |
| ·光伏材料的研究现状及发展趋势 | 第10-14页 |
| ·SI,SI/GE 材料的能带结构及量子效应 | 第14-18页 |
| ·薄膜材料的磁控溅射制备 | 第18-20页 |
| ·SI/GE 薄膜的生长特征 | 第20-21页 |
| ·本课题工作的目的与意义 | 第21-22页 |
| ·本课题的研究内容和实验方案 | 第22-24页 |
| 第二章：实验方法与设备 | 第24-32页 |
| ·实验材料准备 | 第24-26页 |
| ·薄膜的溅射沉积设备 | 第26-27页 |
| ·薄膜的热处理 | 第27页 |
| ·薄膜的微结构与成分分析 | 第27-30页 |
| ·薄膜的光性能表征 | 第30-32页 |
| 第三章：SI 单层膜的磁控溅射工艺与性能 | 第32-48页 |
| ·SI 单层膜的溅射沉积工艺 | 第32-37页 |
| ·SI 单层膜的组织结构 | 第37-45页 |
| ·SI 单层膜的光性能 | 第45-47页 |
| ·单层膜沉积工艺的确定 | 第47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 第四章：SI/GE 薄膜的制备与光性能 | 第48-71页 |
| ·SI/GE 异质结构的设计与制备 | 第48-50页 |
| ·SI/GE 与(SI/GE)_3薄膜的微结构与光性能 | 第50-59页 |
| ·SI/GE/ZNO 薄膜的微结构与界面特性 | 第59-65页 |
| ·SI/GE/ZNO 和(SI/GE)_3/ZNO 薄膜的光性能 | 第65-69页 |
| ·本章小结 | 第69-71页 |
| 第五章：非晶-多晶/纳米晶[(SI/GE)_xZNO]的制备与光性能 | 第71-83页 |
| ·SI/GE 多层薄膜的设计与制备 | 第72-73页 |
| ·SI/GE 多层薄膜的微结构 | 第73-80页 |
| ·SI/GE 多层薄膜的光性能 | 第80-82页 |
| ·本章小结 | 第82-83页 |
| 第六章 结论 | 第83-85页 |
| 参考文献 | 第85-93页 |
| 致谢 | 第93-94页 |
| 学习期间发表的学术论文 | 第94页 |
